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低溫輝光放電等離子體技術(shù)在水體中酚類降解中的應(yīng)用

發(fā)布時間:2020-03-22 21:03
【摘要】:等離子體狀態(tài)通常稱作物質(zhì)的第四態(tài),由正、負離子、電子和中性粒子組成。宇宙空間許多物質(zhì)都處于等離子體態(tài),實驗室中產(chǎn)生的等離子體主要有兩類,即高溫等離子體和低溫等離子體或氣體放電等離子體。本文主要介紹低溫等離子體的產(chǎn)生方法及其在誘導(dǎo)化學(xué)反應(yīng)方面的應(yīng)用,全文共分四部分。 第一部分 綜述 綜述了氣體放電產(chǎn)生等離子體的主要方式以及它們的工作原理,包括用于分析目的的等離子體,如輝光放電,ICPs和微波放電等。闡述了它們的主要應(yīng)用領(lǐng)域。介紹了接觸輝光放電等離子體的概念、化學(xué)反應(yīng)機理及其應(yīng)用前景。 第二部分 接觸輝光放電等離子體反應(yīng)裝置的改進 接觸輝光放電電解是處理廢水的一種很好的技術(shù),我們對傳統(tǒng)的接觸輝光放電等離子體誘發(fā)化學(xué)反應(yīng)的反應(yīng)裝置進行了改進。改進之后,簡化了實驗操作,提高了反應(yīng)效率,延長了電極壽命,穩(wěn)定了輝光放電過程,達到了預(yù)期的目的。應(yīng)用新裝置,設(shè)計了“等離子體飲用水凈化器”和“等離子體刷”,并與改進的新裝置一起申請了發(fā)明專利,專利名稱和申請?zhí)柗謩e為: 1.用等離子體降解水溶液中有機污染物的裝置,中國發(fā)明專利申請?zhí)?03134546.8;(2005年3月11日公布并進入實質(zhì)審查程序) 2.等離子體飲用水凈化裝置,中國實用專利申請?zhí)?200420086147.9 3.接觸輝光放電等離子體引發(fā)合成超強吸水劑的方法:中國發(fā)明專利申請?zhí)?00410073481.5 第三部分 傳統(tǒng)的氧化降解方法及其特點與應(yīng)用 介紹了傳統(tǒng)的氧化降解方法及其特點與應(yīng)用,用以和插入式輝光放電等離子體誘發(fā)的氧化降解反應(yīng)進行比較。 第四部分 插入式輝光放電等離子體誘導(dǎo)氧化降解水體中的硝基酚 研究了插入式輝光放電等離子體誘導(dǎo)氧化降解水溶液中的4-硝基酚,2,4-二硝基
【圖文】:

實例圖,電暈放電,實例,磁控管


大家最熟悉的電磁場和電場交叉定性的放電類型是磁控管放電【,56],有三類不同結(jié)構(gòu)的磁控管,即圓筒型的、圓形的、平面形的磁控管。所謂的“平衡磁控管”,,是在陰極后面有一個提供軸對稱磁場的永久磁鐵(圖1一5),因此,在陰極表面就形成一種“磁性環(huán)”,環(huán)的平均半徑是R,寬度為W,電子進入此環(huán)___________】2博士生導(dǎo)師:高鋅章教授博士研究生:蒲陸梅專業(yè):高分子化學(xué)與物理研究方向:等離子體化學(xué)

單電極,電暈放電,濺射


Ptas怕己node圖1一“平衡磁控管中”較強的流向陰極的離子流也引起更強的濺射,濺射原子在等離子體中發(fā)生較少散射碰撞,由于壓力減小,濺射原子就更直接地沉積到底物上。陰極材料的濺射和相繼在底物上的薄膜沉積是磁控管放電最重要的應(yīng)用。13博士生導(dǎo)師:高錦章教授博士研究生:蒲陸梅專業(yè):高分子化學(xué)與物理研究方向:等離子體化學(xué)
【學(xué)位授予單位】:西北師范大學(xué)
【學(xué)位級別】:博士
【學(xué)位授予年份】:2005
【分類號】:X703.1

【引證文獻】

相關(guān)期刊論文 前1條

1 張延宗;鄭經(jīng)堂;陳宏剛;;非平衡等離子體水處理技術(shù)研究進展[J];化工進展;2007年07期

相關(guān)博士學(xué)位論文 前2條

1 杜長明;滑動弧放電等離子體降解氣相及液相中有機污染物的研究[D];浙江大學(xué);2006年

2 張延宗;非平衡等離子體與多孔炭材料降解染料廢水的協(xié)同效應(yīng)[D];中國石油大學(xué);2008年

相關(guān)碩士學(xué)位論文 前3條

1 王興剛;輝光放電電解等離子體在高分子復(fù)合材料合成中的應(yīng)用[D];西北師范大學(xué);2010年

2 馬得莉;輝光放電電解等離子體引發(fā)合成聚丙烯酸/粘土類復(fù)合吸水性樹脂及其性能研究[D];西北師范大學(xué);2011年

3 鄧麗華;正丙醇溶液等離子體電解制備金剛石顆粒初探[D];華南理工大學(xué);2012年



本文編號:2595620

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