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NiO/γ-Al 2 O 3 催化劑協(xié)同低溫等離子體技術(shù)降解甲苯氣體的研究

發(fā)布時間:2021-11-25 22:44
  揮發(fā)性有機(jī)化合物是一種重要的大氣污染物,對人類和環(huán)境都具有巨大危害。與傳統(tǒng)處理技術(shù)如燃燒、吸收、冷凝等相比,低溫等離子體技術(shù)具有能耗低、效率高、操作簡單等特點(diǎn)。本文將介質(zhì)阻擋放電反應(yīng)器與催化劑相結(jié)合,主要研究了在低溫等離子體協(xié)同催化劑降解系統(tǒng)中甲苯氣體的去除效果,并對所制備的催化劑進(jìn)行了物理化學(xué)表征。首先,僅使用單一介質(zhì)阻擋放電反應(yīng)器在一定條件下進(jìn)行甲苯氣體降解實驗。考察了甲苯進(jìn)口濃度、空速、背景氣體等因素對甲苯氣體去除率的影響。在其它反應(yīng)條件相同的情況下,隨著甲苯進(jìn)口濃度的增加,甲苯去除率逐漸下降。另外,甲苯的去除率隨著空速的增加而降低。其次,采用浸漬法制備了不同NiO負(fù)載量的NiO/Y-Al2O3催化劑,并在低溫等離子體協(xié)同催化劑降解系統(tǒng)中對其活性進(jìn)行了測試。考察了能量密度、催化劑焙燒溫度和NiO負(fù)載量等因素對甲苯去除率的影響。結(jié)果表明,450℃焙燒溫度下制得的催化劑活性最高。在一定范圍內(nèi),催化劑的活性隨NiO負(fù)載量的增加先增強(qiáng)后減弱。當(dāng)NiO負(fù)載量為1.25 wt%時,甲苯去除率可達(dá)93%。同時,使用NiO/γ-Al203催化劑進(jìn)行低溫等離子體催化降解反應(yīng)的過程中僅產(chǎn)生少量的氮氧... 

【文章來源】:華東理工大學(xué)上海市 211工程院校 教育部直屬院校

【文章頁數(shù)】:74 頁

【學(xué)位級別】:碩士

【部分圖文】:

NiO/γ-Al 2 O 3 催化劑協(xié)同低溫等離子體技術(shù)降解甲苯氣體的研究


圖1.2沿面放電電極結(jié)構(gòu)??Fig.?1.2?Surface?discharge?electrode?structure??

示意圖,介質(zhì)阻擋,筒型,反應(yīng)器結(jié)構(gòu)


?美國EDAX公司??2.3實驗方法與計算方法??圖2.1為本實驗所用線筒型介質(zhì)阻擋反應(yīng)器結(jié)構(gòu)示意圖。反應(yīng)器的離子管中心固定??一根鋁合金材質(zhì)的金屬絲作放電極,介質(zhì)材料為石英玻璃管,石英玻璃外部環(huán)繞著一圈??鋁合金網(wǎng)作接地極。反應(yīng)器的有效放電長度為25?cm,放電間隙約為4.5?cm。??AC?high??Y?Voltage??Gas?Inlet?,,,.,,,1.^.,^,^.,^?.?Gas?Outlet??^?而rrr二而遵聰請a?^??圖2.1線筒型介質(zhì)阻擋反應(yīng)器結(jié)構(gòu)??Fig.?2.1?Schematic?overview?of?DBD?reactor??

出口氣體,副產(chǎn)物


用質(zhì)譜儀進(jìn)行分析鑒定,最后用數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)對結(jié)果進(jìn)行分析。??通常,除了?03和N0X之外,甲苯降解的氣相副產(chǎn)物主要包括烷烴、醛、酸和苯系??等[681。在低溫等離子體反應(yīng)中,出口氣體中副產(chǎn)物的GC-MS分析如圖2.4所示。經(jīng)過??40分鐘的低溫等離子體處理后,除了微量甲苯外,出口處只檢測到少量丙酮,這表明大??部分有機(jī)物都轉(zhuǎn)化為二氧化碳。??1.B94??7500??7000??6500??6000??5500??5000??g?4500??■§?4000??,〇?3500?〇??<?3000?人?ch3??2000?’??2500?2-4.84?8.J45??〇?L,_r-l__..{,?,??,?,?-?r?t?i?J?j?.?i?y?.?.?i?g?.?.?t??u??2.00?3.00?4.00?5.00?6.00?'?*0〇'?'?'?'?8.00?'?'?'?〇l〇6?'?'?*?1??Time(min)??圖2.4出口氣體中副產(chǎn)物的GC-MS分析??Fig.?2.4?GC-MS?analysis?of?by-products?in?the?outlet?gas??在實際應(yīng)用中更看重整個反應(yīng)體系的處理能力,因此,THC值的變化可以看作是整??個體系降解能力的表現(xiàn)?偧妆饺コ剩ǎ睿┛捎茫裕龋糜嬎,THC去除率的公式定義??如下:??n=%^-xi〇〇%?(2-D??其中,Co是反應(yīng)開始前THC的初始濃度,Ci是反應(yīng)足夠長的時間后THC穩(wěn)定的??濃度

【參考文獻(xiàn)】:
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碩士論文
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[2]非平衡磁控濺射方法替代電沉積技術(shù)的應(yīng)用工藝研究與設(shè)計[D]. 楊林生.合肥工業(yè)大學(xué) 2010
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本文編號:3518928

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