本文關(guān)鍵詞：面向等離子體高能合成射流應(yīng)用的重頻脈沖源研制　出處：《高電壓技術(shù)》2017年09期 　論文類型：期刊論文

  更多相關(guān)文章： 流動(dòng)控制 等離子體合成射流 激勵(lì)器 放電電容 脈沖源 紋影系統(tǒng)

【摘要】：等離子體合成射流是高速流場(chǎng)控制的一種重要手段,而高重頻、大能量的等離子體合成射流可以產(chǎn)生更好的流動(dòng)控制效果。為此研制了一臺(tái)可實(shí)現(xiàn)高重頻等離子體高能合成射流的脈沖電源,輸出參數(shù)為:電壓幅值0~10k V,重復(fù)頻率0~1 000 Hz可調(diào),脈寬15μs,放電電流峰值320 A,放電能量超過(guò)150 m J。首先,對(duì)脈沖源的拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)進(jìn)行了設(shè)計(jì),對(duì)其工作原理進(jìn)行了說(shuō)明。其次研究了放電電容對(duì)于輸出波形的影響,并在高重頻條件下進(jìn)行了放電特性和能量特性分析。最后,利用紋影系統(tǒng)觀察了射流流場(chǎng)的發(fā)展過(guò)程。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明:高重頻條件下輸出電壓穩(wěn)定性良好;隨著放電電容的增大,放電持續(xù)時(shí)間延長(zhǎng),放電電流增大,放電能量增加;此外,紋影系統(tǒng)觀測(cè)表明合成射流速度可達(dá)150 m/s。該電源可應(yīng)用于流動(dòng)控制領(lǐng)域。
[Abstract]:Plasma synthesized jet is an important means of high velocity flow field control, and high repetition frequency. The high energy plasma synthesized jet can produce better flow control effect. Therefore, a pulse power supply is developed to realize high repetition frequency plasma high energy synthetic jet. The output parameters are as follows: voltage amplitude 0 ~ 10 kV, repetition rate 0 ~ 1 000 Hz adjustable, pulse width 15 渭 s, discharge current peak 320 A. The discharge energy is more than 150mJ. Firstly, the topology of the pulse source is designed and its working principle is explained. Secondly, the effect of discharge capacitance on the output waveform is studied. The characteristics of discharge and energy are analyzed at high repetition frequency. Finally, the development process of jet flow field is observed by using a schlieren system. The experimental results show that the output voltage is stable at high repetition frequency. With the increase of discharge capacitance, the discharge duration is prolonged, the discharge current increases and the discharge energy increases. In addition, the schlieren system observations show that the synthetic jet velocity can reach 150 m / s. The power supply can be used in the field of flow control.
【作者單位】： 中國(guó)科學(xué)院電工研究所;中國(guó)科學(xué)院大學(xué);國(guó)防科學(xué)技術(shù)大學(xué)航天科學(xué)與工程學(xué)院;
【基金】：國(guó)家自然科學(xué)基金(51577177)~~
【分類號(hào)】：TN86
【正文快照】： 0引言1近年來(lái),低溫等離子體在物質(zhì)表面改性、點(diǎn)火助燃、流動(dòng)控制等領(lǐng)域得到持續(xù)關(guān)注[1-4]。等離子體流動(dòng)控制因其沒(méi)有運(yùn)動(dòng)部件、響應(yīng)速度快等特點(diǎn)成為一種新概念流動(dòng)控制技術(shù)。在等離子體流動(dòng)控制系統(tǒng)中,作為其核心部件之一的激勵(lì)器很大程度上決定了流動(dòng)控制的實(shí)際效果[5-6]。

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本文編號(hào)：1400238