偏振成像提供人類視覺系統(tǒng)無(wú)法察覺的偏振信息。當(dāng)前高分辨率下的偏振成像傳感器可以實(shí)現(xiàn)從線偏振光中提取一系列完整的偏振特性,同時(shí)得到目標(biāo)物更多的偏振信息。偏振片是偏振成像技術(shù)的重要組成部分,可實(shí)現(xiàn)入射光的遮蔽和透射。隨著微納加工技術(shù)的不斷發(fā)展,亞波長(zhǎng)金屬光柵已被證明是具有良好偏振特性的光學(xué)元件。這種偏振光柵由于其體積小、易于集成,在偏振成像等領(lǐng)域有廣闊的應(yīng)用前景。本文主要利用電子束曝光技術(shù)與聚焦離子束刻蝕技術(shù)制備偏振光柵微陣列,并研究其偏振特性。首先,本文概述了偏振光柵微陣列的研究背景及意義、目前的研究和發(fā)展現(xiàn)狀,以及課題主要研究?jī)?nèi)容,并對(duì)分析偏振光柵偏振特性的等效介質(zhì)理論和設(shè)計(jì)偏振光柵結(jié)構(gòu)的斯托克斯理論進(jìn)行了論述。其次,在工藝制造方面,本文主要介紹了電子束曝光技術(shù)與聚焦離子束刻蝕技術(shù)。詳細(xì)介紹了電子束曝光系統(tǒng),并分析了電子束曝光技術(shù)的工作原理、制造工藝和參數(shù)設(shè)置,以及各參數(shù)之間的相互作用與影響,總結(jié)了感應(yīng)耦合等離子體刻蝕技術(shù)的工作原理、工藝流程和影響因素。并利用電子束曝光技術(shù)制備不同周期的偏振光柵微陣列、同周期不同曝光劑量的偏振光柵微陣列。同時(shí),采用原子力顯微鏡與掃描電鏡對(duì)偏振光柵微陣列... 

【文章頁(yè)數(shù)】：57 頁(yè)

【學(xué)位級(jí)別】：碩士

【文章目錄】：
摘要
ABSTRACT
第1章 緒論
    1.1 引言
    1.2 偏振光柵微陣列研究現(xiàn)狀
        1.2.1 國(guó)內(nèi)研究現(xiàn)狀
        1.2.2 國(guó)外研究現(xiàn)狀
    1.3 課題主要研究?jī)?nèi)容
第2章 鋁金屬光柵的偏振特性理論與結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)
    2.1 光柵的偏振特性
        2.1.1 等效介質(zhì)理論
        2.1.2 偏振光柵微陣列的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)
    2.2 本章小結(jié)
第3章 電子束——ICP刻蝕技術(shù)制備偏振光柵微陣列
    3.1 電子束-ICP刻蝕技術(shù)制造光柵結(jié)構(gòu)
    3.2 電子束曝光工藝
        3.2.1 電子束曝光概述
        3.2.2 電子束曝光工藝的主要流程
        3.2.3 實(shí)驗(yàn)結(jié)果分析
        3.2.4 電子束曝光工藝參數(shù)的影響
    3.3 ICP刻蝕工藝
        3.3.1 ICP刻蝕工藝概述
        3.3.2 ICP刻蝕工藝的主要流程
        3.3.3 實(shí)驗(yàn)結(jié)果分析
        3.3.4 ICP刻蝕工藝參數(shù)的影響
    3.4 原子力顯微鏡表征偏振光柵微陣列
        3.4.1 原子力顯微鏡簡(jiǎn)介
        3.4.2 實(shí)驗(yàn)步驟
        3.4.3 實(shí)驗(yàn)結(jié)果分析
    3.5 本章小結(jié)
第4章 聚焦離子束刻蝕技術(shù)制備偏振光柵微陣列
    4.1 聚焦離子束刻蝕工藝
        4.1.1 聚焦離子束刻蝕概述
        4.1.2 聚焦離子束刻蝕主要流程
        4.1.3 實(shí)驗(yàn)結(jié)果分析
    4.2 聚焦離子束刻蝕工藝參數(shù)的影響
    4.3 本章小結(jié)
第5章 偏振光柵微陣列的性能檢測(cè)及分析
    5.1 引言
    5.2 偏振光柵微陣列性能檢測(cè)
    5.3 光柵結(jié)構(gòu)參數(shù)對(duì)偏振性能的影響
        5.3.1 深寬比對(duì)偏振性能的影響
        5.3.2 周期對(duì)偏振性能的影響
        5.3.3 曝光劑量對(duì)偏振性能的影響
        5.3.4 相位對(duì)偏振性能的影響
    5.4 本章小結(jié)
第6章 總結(jié)與展望
    6.1 總結(jié)
    6.2 展望
參考文獻(xiàn)
攻讀學(xué)位期間取得的成果
致謝


【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
[1]基于像素偏振片陣列的實(shí)時(shí)動(dòng)態(tài)相位測(cè)量技術(shù)[J]. 張志剛,董鳳良,程騰,仇康,張青川,褚衛(wèi)國(guó),伍小平.  中國(guó)科學(xué):技術(shù)科學(xué). 2015(05)
[2]像素偏振片陣列制備及其在偏振圖像增強(qiáng)中的應(yīng)用[J]. 張志剛,董鳳良,張青川,褚衛(wèi)國(guó),仇康,程騰,高杰,伍小平.  物理學(xué)報(bào). 2014(18)
[3]大有前途的電子束光刻技術(shù)[J]. 楊紅瑤.  科技資訊. 2012(31)
[4]基于偏振特性的偽裝目標(biāo)檢測(cè)方法研究[J]. 劉曉,王峰,薛模根.  光學(xué)技術(shù). 2008(05)
[5]基于偏振特征的目標(biāo)檢測(cè)[J]. 趙永強(qiáng),張洪才,潘泉.  量子電子學(xué)報(bào). 2003(06)
[6]聚焦離子束（FIB）技術(shù)及其在微電子領(lǐng)域中的應(yīng)用[J]. 劉立建,謝進(jìn),王家楫.  半導(dǎo)體技術(shù). 2001(02)
[7]聚焦離子束（FIB）刻蝕在光電子器件方面的應(yīng)用[J]. 畢建華,陸家和.  真空科學(xué)與技術(shù). 1994(04)

博士論文
[1]分孔徑同時(shí)偏振成像光學(xué)系統(tǒng)的研究[D]. 賀虎成.蘇州大學(xué) 2014
[2]亞波長(zhǎng)光柵偏振和濾光器件設(shè)計(jì)與制備[D]. 周云.蘇州大學(xué) 2013

碩士論文
[1]偏振光斯托克斯參量的分振幅測(cè)量系統(tǒng)的設(shè)計(jì)與實(shí)驗(yàn)研究[D]. 徐曉?shī)?浙江大學(xué) 2011
[2]一種仿生大氣偏振信息傳感陣列研究[D]. 王苗欣.合肥工業(yè)大學(xué) 2011



本文編號(hào)：3692686