光學(xué)超分辨技術(shù)在光學(xué)加工、檢測以及成像等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。光學(xué)超分辨光刻是光學(xué)超分辨技術(shù)在光刻領(lǐng)域的實踐。在眾多超分辨光刻技術(shù)中,基于光致變色材料的吸收度調(diào)制超分辨光刻是一種利用遠(yuǎn)場光調(diào)制近場光的非接觸式光刻技術(shù),具有對比度高且控制簡單的優(yōu)點。但是該技術(shù)主要是用干涉條紋來限制光刻的線寬,只能產(chǎn)生如光柵的簡單圖案,難以提高單點分辨率。本課題組創(chuàng)新性地將該技術(shù)和激光直寫系統(tǒng)融合在一起形成了吸收度調(diào)制激光直寫系統(tǒng),并成功刻寫出超分辨直寫線條。盡管如此,對基于光致變色材料的吸收度調(diào)制激光直寫技術(shù)的研究還不夠深入�；诖�,本論文的主要目的并非產(chǎn)生超分辨直寫線條,而是作為補充,研究它的理論基礎(chǔ)和若干關(guān)鍵技術(shù)�；诠庵伦兩牧系奈斩日{(diào)制激光直寫的機(jī)理是吸收度調(diào)制效應(yīng),它是通過限制光調(diào)節(jié)光強(qiáng)來調(diào)節(jié)介質(zhì)對寫入光的吸收率進(jìn)而調(diào)制其透射光強(qiáng)。當(dāng)寫入光照射光致變色材料時,材料的構(gòu)型從一種結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)化成另一種結(jié)構(gòu),兩種結(jié)構(gòu)有不同的吸收光譜,而限制光可以將此變換逆轉(zhuǎn),兩者相互競爭。由于限制光在吸收度調(diào)制中作用更明顯,當(dāng)達(dá)到動態(tài)平衡時,寫入光的線寬被有效地壓縮。本文分析了該效應(yīng)的微觀過程,并以此建立了吸收度調(diào)制激光... 

【文章來源】：浙江大學(xué)浙江省 211工程院校 985工程院校 教育部直屬院校

【文章頁數(shù)】：80 頁

【學(xué)位級別】：碩士

【部分圖文】：

圖１．２（ａ）納米光纖斜觸式光刻裝置示意圖（ｂ）近場掃描顯微鏡（ＮＳＯＭ）??基于功能材料的超分辨技術(shù)則主要是利用功能材料或器件的特殊效應(yīng)實現(xiàn)光學(xué)超分??

（ｂ）?（ｃ）??圖１．３（ａ）超透鏡光刻系統(tǒng)圖和ＳＰＲ超透鏡刻寫結(jié)果（ｂ）納米金屬顆粒光刻（ｃ）負(fù)折射率透鏡模??扳光刻示意圖??另外，基于光致變色效應(yīng)的吸收度調(diào)制超分辨技術(shù)是一種遠(yuǎn)場和近場結(jié)合的光學(xué)超分??辨技術(shù)，主要通過遠(yuǎn)場光束作用下產(chǎn)生光學(xué)近場吸收調(diào)制效應(yīng)實現(xiàn)。在突破衍射極限的同??時，不會產(chǎn)生遠(yuǎn)場調(diào)制超分辨技術(shù)中的旁瓣效應(yīng)，且不需要像近場光學(xué)超分辨技術(shù)那樣對??探針進(jìn)行精確控制。因此，這種吸收調(diào)制超分辨技術(shù)具有很大的研究和應(yīng)用價值。更重要??的是，具有吸收度調(diào)制效應(yīng)的光致變色材料可以重復(fù)利用，若用在光學(xué)超分辨光刻中，將??大大降低光刻的應(yīng)用成本。??１．２光學(xué)超分辨光刻技術(shù)研究現(xiàn)狀??韓國延世大學(xué)（Ｙｏｎｓｅｉ?Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ）提出了?一種圖１．４所示的基于接觸式探針的近場光??刻技術(shù)ｌＵ）｜，使用固體浸沒透鏡或納米孔徑來增強(qiáng)近場寫入方法中的分辨率，其光刻線寬覆??蓋了亞微米至納米尺度。同時，他們將幾種探針與傳統(tǒng)的激光光刻系統(tǒng)集成在一起，并使??用４０５ｎｍ波長的激光器實現(xiàn)了高達(dá)３５ｎｍ的圖案分辨率。此外

大大降低光刻的應(yīng)用成本。??１．２光學(xué)超分辨光刻技術(shù)研究現(xiàn)狀??韓國延世大學(xué)（Ｙｏｎｓｅｉ?Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ）提出了?一種圖１．４所示的基于接觸式探針的近場光??刻技術(shù)ｌＵ）｜，使用固體浸沒透鏡或納米孔徑來增強(qiáng)近場寫入方法中的分辨率，其光刻線寬覆??蓋了亞微米至納米尺度。同時，他們將幾種探針與傳統(tǒng)的激光光刻系統(tǒng)集成在一起，并使??用４０５ｎｍ波長的激光器實現(xiàn)了高達(dá)３５ｎｍ的圖案分辨率。此外，該系統(tǒng)探頭的掃描速度足??夠高（約ｌ（）ｍｍ／ｓ），可用于實際的工業(yè)制造。??Ｏｂｊｃｃｔｉｖｏ?ｌｏｏｓ，?Ｏｂ］ｅｃｆｉｖ？??４０５ｎｍ?ｌａｓｅｒ??Ｓｈｅｅｔ?ｍｅｔａｌ??？?－ｒｎ９??（ａ）?（ｂ）??圖１．４（ａ）接觸式探針的近場光刻的ＳＩＬ－探針（ｂ）納米探專ｔ??４??

【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
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博士論文
[1]渦旋光誘導(dǎo)不透明激光直寫系統(tǒng)研究[D]. 魏震.浙江大學(xué) 2015
[2]光學(xué)渦旋的衍射特性、生成及檢測方法的研究[D]. 魏功祥.山東師范大學(xué) 2010
[3]曲面激光直寫中若干關(guān)鍵技術(shù)研究[D]. 陳龍江.浙江大學(xué) 2010
[4]激光干涉光刻技術(shù)[D]. 張錦.四川大學(xué) 2003
[5]激光直寫光刻技術(shù)研究[D]. 李鳳有.中國科學(xué)院研究生院（長春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所） 2002

碩士論文
[1]渦旋光束的產(chǎn)生及特性研究[D]. 徐麗娟.浙江大學(xué) 2014
[2]渦旋光束的特性研究[D]. 陳志婷.燕山大學(xué) 2013
[3]空間曲面激光直寫技術(shù)的研究[D]. 吳波.電子科技大學(xué) 2012
[4]基于圖像處理的自動對焦理論和技術(shù)研究[D]. 蔣婷.武漢理工大學(xué) 2008
[5]基于數(shù)字圖像處理的自動對焦技術(shù)研究[D]. 劉興寶.中國工程物理研究院 2007
[6]曲面激光直寫光刻技術(shù)研究[D]. 閆瑋.浙江大學(xué) 2006



本文編號：3210264