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1064nm激光預(yù)處理對(duì)HfO 2 /SiO 2 反射膜損傷形態(tài)轉(zhuǎn)化影響研究

發(fā)布時(shí)間:2021-03-21 00:27
  實(shí)驗(yàn)研究了不同激光預(yù)處理參數(shù)對(duì)于納秒激光多脈沖作用下HfO2/SiO2反射膜損傷形態(tài)轉(zhuǎn)化的影響。通過(guò)對(duì)比兩類(lèi)損傷擴(kuò)張性和對(duì)薄膜功能性破壞機(jī)制,提出激光預(yù)處理技術(shù)的重要意義在于抑制損傷形態(tài)轉(zhuǎn)化過(guò)程。通過(guò)薄膜損傷形態(tài)分析揭示了激光預(yù)處理作用機(jī)制為節(jié)瘤缺陷的去除和亞表面吸收前驅(qū)體的形成兩方面的綜合作用。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明:預(yù)處理后薄膜損傷形態(tài)轉(zhuǎn)化特征曲線向更高通量和更多發(fā)次方向平移。針對(duì)現(xiàn)有工藝下的薄膜,采用高通量、兩臺(tái)階的預(yù)處理參數(shù)組合能夠獲得兼顧效率的最佳收益,其零幾率損傷形態(tài)轉(zhuǎn)化閾值最高可以提升140%。 

【文章來(lái)源】:紅外與激光工程. 2017,46(06)北大核心EICSCD

【文章頁(yè)數(shù)】:7 頁(yè)

【文章目錄】:
0 引言
1 損傷形態(tài)分類(lèi)與形態(tài)轉(zhuǎn)化
2 實(shí)驗(yàn)條件
3 結(jié)果與討論
    3.1 激光預(yù)處理參數(shù)對(duì)損傷形態(tài)轉(zhuǎn)化影響
    3.2 激光預(yù)處理機(jī)制
4 結(jié)論


【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]532nm HfO2/SiO2高反膜的激光預(yù)處理效應(yīng)[J]. 劉杰,張偉麗,朱美萍.  強(qiáng)激光與粒子束. 2015(03)
[2]中等口徑光斑激光預(yù)處理[J]. 鄭軼,劉志超,馬平,陳松林,張清華.  強(qiáng)激光與粒子束. 2013(12)
[3]1064nm激光多脈沖下HfO2/SiO2高反膜損傷規(guī)律[J]. 劉志超,陳松林,羅晉,潘峰,李樹(shù)剛.  紅外與激光工程. 2012(05)
[4]電子束蒸發(fā)制備HfO2/SiO2高反膜的1064 nm激光預(yù)處理效應(yīng)[J]. 劉曉鳳,李大偉,李笑,趙元安,邵建達(dá).  中國(guó)激光. 2009(06)



本文編號(hào):3091952

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