二維Yukawa液體的性質(zhì)和統(tǒng)計(jì)的模擬研究
【圖文】:
旅行者2號拍下的土星環(huán)中輻條狀塵埃照片,左框照片時(shí)間間隔為10分鐘[1]
2圖 1.3 等離子體刻蝕中硅片上方的塵埃以及塵埃顆粒的電鏡圖[3]。工業(yè)制造中,,塵埃等離子體同樣存在。在技術(shù)處理過程和等離子體刻蝕體塵埃顆粒容易從氣體分子生長到納米粒子大小[3]。例如刻蝕中常用的化學(xué)性質(zhì)非;钴S的氣體,容易產(chǎn)生二氧化硅,分子聚集形成塵埃顆等離子體充電,受到電場力和重力的作用,處于平衡狀態(tài)而被懸浮,隨著放電結(jié)束,電場力消失,顆粒由于重力作用下落,造成污染。在電程中,去除這類等離子體生長的顆粒至關(guān)重要。
【學(xué)位授予單位】:蘇州大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2018
【分類號】:O539
【相似文獻(xiàn)】
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本文編號:2646955
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