【摘要】：吸收光柵是X射線相襯成像系統(tǒng)的關(guān)鍵器件,鉍吸收光柵由于其制作成本低廉且適于在普通實驗室開展制作而受到青睞。提出了一種針對鉍光柵X射線相襯成像條紋對比度的定量計算方法,通過建立模型,數(shù)值計算了不同鉍層厚度的吸收光柵所對應的疊柵條紋對比度,并比較了π和π/2相位光柵兩種情形下的結(jié)果。結(jié)果顯示,隨著吸收光柵鉍層厚度的增加,條紋對比度逐漸增加,當源光柵和分析光柵的鉍層厚度分別達到150μm和110μm時,利用π相位光柵在40kV管電壓下其條紋對比度可達48%,60kV管電壓下其條紋對比度只能達到22%。而在兩個吸收光柵鉍層厚度相同的情況下,采用π/2相位光柵所得條紋對比度略優(yōu)于π相位光柵的結(jié)果。對鉍光柵X射線相襯成像條紋對比度的計算分析,可作為X射線相襯成像系統(tǒng)設(shè)計的參考依據(jù),推動該成像技術(shù)走向?qū)嵱没?br/>[Abstract]:Absorption grating is the key device of X-ray phase contrast imaging system. Bismuth absorption grating is favored because of its low cost and suitable for fabrication in ordinary laboratory. A quantitative method for calculating the contrast of X-ray phase contrast imaging stripes of bismuth gratings is presented. by establishing a model, the contrast of stacked fringes corresponding to absorption gratings with different bismuth layer thickness is calculated. The results of 蟺 and 蟺 / 2 phase gratings are compared. The results show that with the increase of bismuth layer thickness of absorption grating, the stripe contrast increases gradually. When the bismuth layer thickness of source grating and analytical grating reaches 150 渭 m and 110 渭 m, respectively, the stripe contrast of 蟺 phase grating can reach 48% at 40kV tube voltage. Under the voltage of 60kV tube, the contrast of stripes can only reach 22%. When the thickness of bismuth layer of two absorption gratings is the same, the contrast of stripes obtained by 蟺 / 2 phase gratings is slightly better than that of 蟺 phase gratings. The calculation and analysis of the contrast of X-ray phase contrast imaging stripes of bismuth gratings can be used as a reference for the design of X-ray phase contrast imaging system and promote the practical application of this imaging technology.
【作者單位】： 深圳大學光電工程學院廣東省/教育部光電子器件與系統(tǒng)重點實驗室;深圳大學信息工程學院;
【基金】：國家重大科研儀器設(shè)備研制專項(61227802) 國家自然科學基金青年基金(61605119,61405120,11404221) 中國博士后科學基金面上項目(2016M592529)
【分類號】：O434.19

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本文編號：2478857