【摘要】：提出了基于M?llenstedt電子雙棱鏡的電壓掃描剪切干涉全場ptychographic iterative engine(PIE)顯微成像技術(shù).從低到高逐步改變電子雙棱鏡的電壓,并同時記錄所形成的剪切干涉條紋,待測樣品透射電子束的強度和相位分布就可以用PIE算法得以快速重建,而且雙棱鏡的方向、位置和實際電場強度分布等諸多實驗中不可避免地偏差都可以在迭代過程中自動得以更正.所提技術(shù)能夠克服現(xiàn)階段用電子束進行PIE成像的諸多技術(shù)困擾,從而有望推動PIE技術(shù)在電子顯微成像領(lǐng)域的發(fā)展和應(yīng)用.
[Abstract]:A voltage scanning shear interferometric full-field ptychographic iterative engine (PIE) microimaging technique based on M?llenstedt electron biprism is proposed. The voltage of the electron biprism is changed from low to high, and the shear interference fringes are recorded at the same time. The intensity and phase distribution of the transmitted electron beam can be quickly reconstructed by the PIE algorithm, and the direction of the biprism can also be reconstructed. In many experiments, such as position and actual electric field intensity distribution, the deviation can be corrected automatically in the iterative process. The proposed technique can overcome many technical problems of electron beam PIE imaging at this stage, which is expected to promote the development and application of PIE technology in the field of electron microscopic imaging.
【作者單位】： 江南大學(xué)理學(xué)院光電信息科學(xué)與工程系;中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機械研究所;
【基金】：國家自然科學(xué)基金(批準號:11647144) 江蘇省自然科學(xué)基金(批準號:BK2012548)資助的課題~~
【分類號】：O436.1

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本文編號：2368853