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微波消解-電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法測定鐵硅鋁磁芯中鋁和硅

發(fā)布時間:2018-08-09 13:05
【摘要】:使用鹽酸-硝酸-氫氟酸并采用微波消解法處理樣品,選擇Al 308.215nm和Si212.412nm作為分析線,基體匹配法配制標(biāo)準(zhǔn)溶液系列繪制校準(zhǔn)曲線,使用電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法(ICP-AES)測定鋁和硅,從而建立了微波消解-電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法(ICP-AES)測定鐵硅鋁磁芯中鋁和硅的方法。結(jié)果表明,鋁和硅的質(zhì)量分?jǐn)?shù)分別為1.00%~9.00%和2.50%~12.50%時與其發(fā)射強(qiáng)度呈線性,線性相關(guān)系數(shù)均不小于0.999 4;方法中鋁和硅的檢出限分別為0.020%和0.021%(質(zhì)量分?jǐn)?shù))。實驗方法應(yīng)用于鐵硅鋁磁芯樣品中鋁和硅的測定,結(jié)果的相對標(biāo)準(zhǔn)偏差(RSD,n=6)為1.4%~2.2%;將測定結(jié)果與滴定法(測定鋁)和重量法(測定硅)的測定結(jié)果進(jìn)行比對,二者相吻合。
[Abstract]:The samples were treated with hydrochloric acid, nitric acid-hydrofluoric acid and microwave digestion. Al 308.215nm and Si212.412nm were selected as analytical lines, and the calibration curves were drawn by matrix matching method. The method of microwave digestion and inductively coupled plasma atomic emission spectrometry (ICP-AES) for the determination of aluminum and silicon in Fe-Si-Al magnetic cores was established by using inductively coupled plasma atomic emission spectrometry (ICP-AES). The results show that the mass fraction of aluminum and silicon are 1.00% and 2.50 ~ 12.50%, respectively, and the linear correlation coefficient is not less than 0.999, and the detection limits of aluminum and silicon are 0.020% and 0.021% (mass fraction) respectively. The experimental method has been applied to the determination of aluminum and silicon in iron, silicon and aluminum cores. The relative standard deviation (RSDN ~ (6) of the results is 1.4 ~ 2.2.The results are compared with those of titration (determination of aluminum) and gravimetric (determination of silicon).
【作者單位】: 北京科技大學(xué)化學(xué)分析中心;鋼鐵研究總院;
【基金】:國家自然科學(xué)基金資助項目(No.21576023) 中央高;究蒲袠I(yè)務(wù)費(FRF-TP-15-080A1)
【分類號】:O657.31;TM271.2

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