發(fā)布時間：2018-05-31 02:43

  本文選題：高壓 + 單晶�。� 參考：《物理學(xué)報》2017年03期

【摘要】：利用同步輻射光源開展高壓X射線衍射(X-ray diffraction,XRD)研究已有近四十年的歷史,并且已經(jīng)取得了非常豐碩的成果.單晶XRD作為高壓研究的一部分,在同步輻射裝置上的應(yīng)用也有了接近三十年的歷史.近年來,隨著同步輻射光學(xué)技術(shù)以及高壓技術(shù)、特別是大衍射窗口金剛石對頂砧壓腔(diamond anvil cell,DAC)的改進(jìn)與發(fā)展,同步輻射高壓單晶衍射實(shí)驗方法在高壓研究中的應(yīng)用越來越普及.由于能夠在壓力條件下獲得樣品在三維空間中的衍射信息分布以及數(shù)據(jù)具有高信噪比等優(yōu)勢,單晶XRD實(shí)驗方法不僅可以用于壓力條件下的晶體結(jié)構(gòu)解析,如獲取晶胞參數(shù)、空間群、原子坐標(biāo)以及原子占位等信息,而且可進(jìn)一步做晶體電荷密度分析研究,得到更多的化學(xué)鍵、電荷分布及其變化等信息.本文主要介紹同步輻射高壓單晶XRD實(shí)驗方法及相關(guān)技術(shù),其中包括單晶XRD實(shí)驗系統(tǒng)、單晶XRD所用DAC、單晶樣品裝填以及單晶XRD數(shù)據(jù)處理等內(nèi)容.
[Abstract]:It has been nearly 40 years since the synchrotron radiation source was used to study the high pressure X-ray diffraction-X-ray diffraction (XRD), and great achievements have been made. As a part of high voltage research, single crystal XRD has been used in synchrotron radiation devices for nearly 30 years. In recent years, with the improvement and development of synchrotron radiation optics and high-voltage technology, especially the large diffractive window diamond anvil chamber diamond cell dacc, the synchrotron radiation high-voltage single crystal diffraction method has become more and more widely used in high-voltage research. Because the diffraction information distribution in three-dimensional space and the high SNR of the sample can be obtained under the pressure condition, the single crystal XRD experimental method can not only be used to analyze the crystal structure under the pressure condition, such as obtaining the unit cell parameters. The information of space group atomic coordinate and atomic occupation can be further studied and more information such as chemical bond charge distribution and its change can be obtained. This paper mainly introduces the experimental methods and related techniques of synchrotron radiation high voltage single crystal XRD, including single crystal XRD experimental system, DAC used in single crystal XRD, single crystal sample filling and single crystal XRD data processing, etc.
【作者單位】： 中國科學(xué)院高能物理研究所多學(xué)科中心;北京工業(yè)大學(xué)固體微結(jié)構(gòu)與性能研究所;
【基金】：國家自然科學(xué)基金(批準(zhǔn)號:11274030,11474281)資助的課題~~
【分類號】：O521.3

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本文編號：1958002