發(fā)布時(shí)間：2018-05-15 21:28

  本文選題：機(jī)械制造工藝與設(shè)備 + 光學(xué)元件��； 參考：《兵工學(xué)報(bào)》2017年03期

【摘要】：為精確控制拋光階段材料去除,實(shí)現(xiàn)光學(xué)元件的確定性拋光加工,在分析快速拋光原理和快速拋光材料去除機(jī)制基礎(chǔ)上,從單顆磨粒受力和拋光墊峰點(diǎn)捕獲的磨粒數(shù)出發(fā),獲得量化的單顆磨粒瞬時(shí)切除體積和拋光接觸區(qū)參與有效磨粒數(shù),從而建立一種光學(xué)元件快速拋光材料去除模型。研究結(jié)果表明:以材料去除量為實(shí)驗(yàn)對(duì)象,在不同拋光液、拋光墊和光學(xué)元件實(shí)驗(yàn)條件下,材料去除模型的理論預(yù)測(cè)結(jié)果與實(shí)驗(yàn)結(jié)果較為吻合,材料去除量誤差可以控制在9%以內(nèi)。驗(yàn)證了該模型對(duì)于光學(xué)元件快速拋光技術(shù)的適用性,從而可以確定性的控制快速拋光時(shí)間和效率。
[Abstract]:In order to accurately control the material removal in the polishing stage and realize the deterministic polishing of optical elements, based on the analysis of the principle of fast polishing and the removal mechanism of fast polishing materials, the force of single abrasive particle and the number of abrasive particles captured at the peak point of polishing pad are analyzed. The instantaneous removal volume of a single abrasive particle and the effective number of abrasive particles in the polished contact zone are obtained, and a model for fast polishing material removal of optical elements is established. The results show that the theoretical prediction results of the material removal model are in good agreement with the experimental results under the experimental conditions of different polishing fluids, polishing pads and optical elements, taking the material removal amount as the experimental object. The material removal error can be controlled within 9%. The applicability of the model to the rapid polishing of optical elements is verified, so that the fast polishing time and efficiency can be controlled definitively.
【作者單位】： 廈門大學(xué)航空航天學(xué)院;中國(guó)工程物理研究院激光聚變研究中心;
【基金】：國(guó)家自然科學(xué)基金項(xiàng)目(51675453) 福建省高等學(xué)校創(chuàng)新能力提升計(jì)劃項(xiàng)目(2013年)
【分類號(hào)】：TN24

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本文編號(hào)：1894026