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噴流壓比對高超聲速流場調制傳遞函數的影響

發(fā)布時間:2021-05-24 19:54
  設計搭建了基于高超聲速(Ma=6.0)炮風洞的氣動光學地面試驗平臺,試驗對象為帶冷卻噴流裝置的光學頭罩模型.利用高速攝像機并結合背景紋影技術獲取了噴流壓比為0、04、1.0、1.16和1.8五種狀態(tài)下的光線偏折信息,結合幾何光學傳遞函數理論獲取了對應狀態(tài)下流場的調制傳遞函數.試驗結果表明,噴流壓比增大使得流向和展向的調制傳遞函數包絡面積減小,較大噴流壓比下流向調制傳遞函數在2~4 lp/mm區(qū)間出現波動現象. 

【文章來源】:光子學報. 2019,48(10)北大核心EICSCD

【文章頁數】:6 頁

【文章目錄】:
0 引言
1 風洞及模型介紹
    1.1 高超聲速炮風洞
    1.2 光學頭罩模型
2 測試設備和技術
    2.1 測試設備
    2.2 試驗光路
    2.3 BOS技術及光學傳遞函數獲取方法
3 試驗結果
4 結論



本文編號:3204768

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