采用磁控濺射技術在Zr70Fe5.4V24.6(質量分數(shù),%,下同)合金基體上沉積Pd膜。研究磁控濺射沉積Pd膜的生長特性和顯微組織及Pd膜對Zr70Fe5.4V24.6合金吸/放氫性能的影響規(guī)律。結果發(fā)現(xiàn),在Zr70Fe5.4V24.6合金基體上磁控濺射沉積的Pd膜具有fcc結構并在(111)晶面有明顯的擇優(yōu)取向。對鍍膜后合金吸/放氫性能的測試結果表明,磁控濺射沉積Pd膜對Zr70Fe5.4V24.6合金的活化性能及吸氫動力學無顯著影響。沉積Pd膜后Zr70Fe5.4V24.6合金可逆吸氫量H/A由0.63增至1.20,吸氫平臺增長量約為90%。氫化物形成焓絕對值的平均值增大約77%,生成熵的平均值增大約56%,沉積Pd膜后的合金與氫結合所形成的氫化物更穩(wěn)定。

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【文章目錄】：
1 實驗
2 結果與討論
    2.1 沉積Pd膜前后合金的相結構及顯微組織
    2.2 沉積Pd膜后合金吸氫動力學
    2.3 沉積Pd膜后合金的吸氫熱力學
3 結論



本文編號：4007192