Ni-Ti合金在低溫下發(fā)生塑性形變,加熱至某一設(shè)定溫度時(shí)能克服自身形變恢復(fù)原始形狀,在宏觀上展現(xiàn)出形狀記憶效應(yīng)。因其特有的形狀記憶特性、良好的超彈性以及低密度、無(wú)磁性等優(yōu)勢(shì),廣泛的應(yīng)用于機(jī)械電子、航空航天、能源交通、石油化工等領(lǐng)域。此外因其良好的生物相容性和抗蝕性,在醫(yī)學(xué)領(lǐng)域應(yīng)用頗廣。由于Ni-Ti合金植入物彈性高、體積小、結(jié)構(gòu)復(fù)雜,傳統(tǒng)機(jī)械拋光加工方法很難適用。而電化學(xué)拋光可以加工機(jī)械拋光難以加工的材料、復(fù)雜型面工件和細(xì)小零件,且經(jīng)電化學(xué)拋光的工件表面質(zhì)量良好。此外,電化學(xué)拋光具有加工效率高、操作簡(jiǎn)單、勞動(dòng)強(qiáng)度小等優(yōu)勢(shì)。因此,電化學(xué)加工方法常用作Ni-Ti合金的表面處理和拋光。文中以熱軋Ni-Ti形狀記憶合金板材為研究對(duì)象,基于自行研制的電化學(xué)拋光加工系統(tǒng),研制了一種電化學(xué)拋光液。在此電化學(xué)拋光液中,通過(guò)單因素試驗(yàn)法及正交試驗(yàn)法,分析了電流密度、拋光時(shí)間、拋光溫度、電極間距等因素對(duì)電化學(xué)拋光的影響程度及影響機(jī)理,得到最佳電化學(xué)拋光工藝。采用MicroXAM-100白光干涉儀、Quanta 250掃描電鏡、FM800顯微硬度計(jì)、OCA15EC接觸角測(cè)量?jī)x和CHI670E電化學(xué)工作站等系...

【文章頁(yè)數(shù)】：68 頁(yè)

【學(xué)位級(jí)別】：碩士

【部分圖文】：

圖1.1粘膜理論與鈍化膜理論示意圖

粘膜理論和鈍化膜理論示意圖分別如圖1.1（a）和圖1.1（b）所示。

圖1.2陽(yáng)極理論電流密度-電位曲線

圖1.2陽(yáng)極理論電流密度-電位曲線Fig.1.2Theanodecurrentdensity-voltagecurveA階段。接通直流電源后，陽(yáng)極電位迅速升至V1，電流密逐漸增大，此時(shí)處于電化學(xué)拋光初期。電流密度的增大速率相關(guān)。若表面已預(yù)處理或處于活化狀態(tài)，....

圖1.3兩種常見(jiàn)陽(yáng)極電流密度-電位曲線

圖1.3兩種常見(jiàn)陽(yáng)極電流密度-電位曲線Fig.1.3Anothertwokindsofanodecurrentdensity-voltagecurves在實(shí)際電化學(xué)拋光過(guò)程中，因基材、拋光液成分、電參數(shù)不同以及試樣表面是預(yù)處理對(duì)陽(yáng)極電流密度-電位曲線有很大....

圖2.1部分試驗(yàn)設(shè)備圖片

磁力攪拌器。型號(hào)為MS1003D直流穩(wěn)壓電源（圖2.1a）；型號(hào)為CHI660E電化學(xué)工作站（圖2.1b）；型號(hào)為FM800顯微硬度計(jì)（圖2.1c）；型號(hào)為MicroXAM-100白光干涉儀（圖2.1d）；型號(hào)為Quanta250掃描電鏡（圖2.1e....

本文編號(hào)：3983511