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TC4合金表面微弧氧化原位生長(zhǎng)自潤(rùn)滑MoS 2 /TiO 2 膜層研究

發(fā)布時(shí)間:2024-03-23 11:25
  鈦合金表面減摩涂層的設(shè)計(jì)和制備是提升鈦合金構(gòu)件耐磨性能、保障服役安全的重要技術(shù)之一。針對(duì)于目前鈦合金減摩涂層中減摩劑分散不均勻,易于團(tuán)聚導(dǎo)致膜基結(jié)合力差等問(wèn)題,本研究采用一步微弧氧化技術(shù)在TC4合金表面原位生長(zhǎng)納米MoS2顆粒,制備具有減磨作用的MoS2/TiO2復(fù)合陶瓷膜層;討論了原位反應(yīng)中硫源添加量對(duì)膜層微觀結(jié)構(gòu)及耐磨性能的影響。結(jié)果表明:以Na2S和Na2MoO4分別為硫源和鉬源在TC4合金表面通過(guò)微弧氧化制備出了MoS2/TiO2復(fù)合陶瓷膜層;通過(guò)控制Na2S濃度可以原位生成具有小尺寸、均勻化分布的納米MoS2顆粒,并實(shí)現(xiàn)對(duì)MoS2含量和形態(tài)的調(diào)控。隨著Na2S濃度的增加,膜層結(jié)構(gòu)逐漸致密化且表面粗糙度較低,當(dāng)添加量到達(dá)60 g/L時(shí),由于硫沉淀作用導(dǎo)致膜層開(kāi)始疏松,粗糙度增加。由于膜層表面和內(nèi)部均存在均勻化分布且具有自潤(rùn)滑作用的MoS

【文章頁(yè)數(shù)】:8 頁(yè)

【文章目錄】:
1 實(shí)驗(yàn)
2 結(jié)果與討論
    2.1 Na2S濃度對(duì)Mo S2/Ti O2復(fù)合膜層成分的影響
    2.2 Na2S濃度對(duì)Mo S2/Ti O2復(fù)合膜層表面形貌的影響
    2.3 Mo S2/Ti O2復(fù)合膜層的磨損行為
3 結(jié)論



本文編號(hào):3935850

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