為研究ZrO2活性擴(kuò)散障的形成機(jī)制,采用電子束物理氣相沉積技術(shù)(EB-PVD)在DD5鎳基高溫合金表面分別沉積ZrO2先驅(qū)層與NiCrAl涂層,分別在真空條件和大氣條件下對(duì)試樣進(jìn)行溫度為700,800及900℃,時(shí)間為5h的高溫?zé)崽幚�。分析了試樣的截面形貌、擴(kuò)散反應(yīng)區(qū)厚度以及ZrO2/NiCrAl涂層界面處的元素分布,并研究了熱處理氣氛對(duì)ZrO2/NiCrAl涂層界面反應(yīng)的影響。結(jié)果表明:真空條件更有益于界面反應(yīng)的進(jìn)行,并發(fā)現(xiàn)經(jīng)過900℃熱處理5h后,ZrO2活性擴(kuò)散障/NiCrAl涂層界面之間形成了致密的Al2O3阻擋層;而在大氣氣氛下,NiCrAl涂層中部分Al元素向表面擴(kuò)散形成氧化膜,從而影響了ZrO2/NiCrAl涂層的界面反應(yīng)。

【文章頁數(shù)】：6 頁

【文章目錄】：
0引言
1試驗(yàn)方法
2結(jié)果及討論
    2.1制備態(tài)ZrO2擴(kuò)散障/NiCrAl涂層的界面
    2.2熱處理氣氛對(duì)ZrO2擴(kuò)散障/NiCrAl涂層界面微觀形貌的影響
    2.3熱處理氣氛對(duì)ZrO2擴(kuò)散障/NiCrAl涂層界面元素狀態(tài)的影響
    2.4ZrO2擴(kuò)散障/NiCrAl界面Al2O3活性擴(kuò)散障的形成
3熱處理氣氛對(duì)ZrO2活性擴(kuò)散障形成的影響
4結(jié)論



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