應(yīng)用掃描電化學(xué)顯微鏡的產(chǎn)生/收集和反饋模式,研究純Mg在NaCl和Na2SO4溶液中腐蝕過程中的微區(qū)(點(diǎn)、線、面)析氫行為和活性點(diǎn)的演變過程.實(shí)驗(yàn)結(jié)果顯示,無論在NaCl還是Na2SO4溶液中,陰極極化和陽極極化均促進(jìn)析氫,與傳統(tǒng)集氣法獲得的純Mg腐蝕過程存在負(fù)差數(shù)效應(yīng)一致,但析氫速率在微區(qū)范圍內(nèi)波動加大,不穩(wěn)定,且與極化程度有關(guān).析氫速率隨NaCl濃度增加而增加,但隨Na2SO4濃度增加而減少.NaCl濃度增大、pH值降低、陽極極化有利于Mg表面活性點(diǎn)的產(chǎn)生.

【文章頁數(shù)】：10 頁

【文章目錄】：
1實(shí)驗(yàn)方法
2實(shí)驗(yàn)結(jié)果
    2.1收集模式研究Mg的析氫
    2.2反饋模式研究純Mg腐蝕過程中的活性點(diǎn)
3分析討論
    3.1極化電位和陰離子對純Mg析氫的影響
    3.2純Mg表面活性點(diǎn)變化及影響因素
4結(jié)論



本文編號：3739801