采用磁控濺射和電弧離子鍍技術(shù),在高速鋼基體上制備了Ti/TiN/TiAlN復(fù)合涂層。采用掃描電子顯微鏡、X射線衍射儀、顯微硬度計(jì)、微米劃痕儀等方法研究了鍍覆條件對(duì)復(fù)合涂層的形貌、組織結(jié)構(gòu)和力學(xué)性能的影響。結(jié)果表明,離子鍍鍍覆的過渡層對(duì)磁控濺射涂層的顯微組織和力學(xué)性能有重要影響。例如,新開發(fā)的AIP+MS技術(shù)制備的復(fù)合膜比AIP或MS技術(shù)制備的薄膜具有更高的硬度、更好的耐磨性能、更光滑的表面和更強(qiáng)的膜基結(jié)合力（大于30N）。由于電弧離子鍍TiN過渡層表面的"大顆粒"在磁控濺射沉積TiAlN薄膜時(shí)也會(huì)結(jié)晶長大,組織形貌與膜上的TiAlN相似,提高了其與周圍薄膜的結(jié)合,電弧離子鍍TiN過渡層表面的"大顆粒"負(fù)面效應(yīng)大大弱化。 

【文章頁數(shù)】：6 頁

【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
[1]多弧離子鍍TiN薄膜顏色性能的研究[J]. 張啟沛,鐘喜春,楊怡帆,李春明,曾德長,邱萬奇,匡同春.  真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報(bào). 2014(07)
[2]涂層結(jié)構(gòu)對(duì)Ti-Al-N涂層氧化行為的影響[J]. 彭繼華,肖新生,蘇東藝,田君.  真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報(bào). 2013(03)
[3]Effects of honing treatment on AIP-TiN and TiAlN coated end-mill for high speed machining[J]. Jae-Young HEO,Sung-Hak CHO,Tae-Jin JE,Kwang-Ho KIM,Hyung-Woo LEE,Myung-Chang KANG.  Transactions of Nonferrous Metals Society of China. 2011(S1)
[4]氮?dú)饬髁繉?duì)磁控濺射ZrN納米涂層結(jié)構(gòu)及硬度的影響[J]. 黃若軒,孫鵬,朱芳萍,祁正兵,王周成.  西安交通大學(xué)學(xué)報(bào). 2011(01)
[5]劃痕法綜合評(píng)定膜基結(jié)合力[J]. 瞿全炎,邱萬奇,曾德長,劉正義.  真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報(bào). 2009(02)
[6]新型AlTiN涂層鉆頭高效干式鉆削40Cr的開發(fā)與試驗(yàn)（英文）[J]. 沈中,劉鋼,陳明.  Transactions of Nanjing University of Aeronautics ＆ Astronautics. 2007(02)



本文編號(hào)：3701246