氧化物彌散強(qiáng)化（Oxide Dispersion Strengthened,ODS）鋼晶粒中均勻彌散分布著高密度的納米尺寸氧化物,同時(shí)具有微米、納米級(jí)的晶粒,這些獨(dú)特的微觀結(jié)構(gòu)使得ODS鋼具有優(yōu)異的高溫性能和抗輻照性能,被認(rèn)為是第四代裂變堆燃料棒包殼的重要候選材料。目前ODS鋼較為成熟的制備工藝為粉末冶金技術(shù),通過(guò)機(jī)械合金化,熱等靜壓燒結(jié)。核反應(yīng)堆燃料包殼從胚料制備成成品將經(jīng)過(guò)熱加工工藝塑性變形,為探究熱軋工藝對(duì)ODS鋼微觀組織,彌散相和力學(xué)性能的影響,本文選擇熱等靜壓法制備出的Fe12Cr2W0.3Y和Fe12Cr2W4.5Al兩個(gè)體系（以下簡(jiǎn)稱(chēng)FeCrWY和FeCrWAl系列）的ODS鋼以楔形板的方式在1100℃下完成熱軋,采用高通量的實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)方案,使用楔形板樣品一次性獲得多個(gè)變形量。本文對(duì)初始樣品和熱軋樣品的微觀結(jié)構(gòu),微觀織構(gòu)和彌散相進(jìn)行深入研究:對(duì)初始樣品和最大變形量（70%）樣品進(jìn)行物相鑒定;觀察了不同成分,不同變形量樣品的微觀形貌,分析了熱軋前后微觀織構(gòu)變化和分析了彌散相成分、尺寸和分布;并探究了不同成分、不同變形量樣品進(jìn)行高溫力學(xué)性能,得到以下結(jié)論:（1）熱軋后FeCrW... 

【文章來(lái)源】：重慶理工大學(xué)重慶市

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【學(xué)位級(jí)別】：碩士

【部分圖文】：

第四代裂變堆和ITER服役工況Figure1.1The4thGenerationFissionReactorandITERServiceConditions

重慶理工大學(xué)碩士學(xué)位論文12HIP方法制備的ODS鋼采用楔形板軋制方案，本實(shí)驗(yàn)采用楔形板軋制，利用楔形板不同位置的高度差，達(dá)到一次軋制獲得多個(gè)變形量的高通量的實(shí)驗(yàn)?zāi)康?在相應(yīng)的變形量處選取實(shí)驗(yàn)所需的樣品，楔形板軋制如圖2.1所示。HIP方法制備出的ODS鋼僅考察1100℃軋制過(guò)程中的微觀組織，微觀織構(gòu)，顯微硬度和高溫強(qiáng)度。HIP法制備出的ODS鋼于馬弗爐1200℃加熱30分鐘，取出完成熱軋，完成熱軋后，淬火，快冷至室溫，具體實(shí)驗(yàn)工藝如下圖所示。圖2.1楔形板軋制示意圖Figure2.1Schematicdiagramofwedgeplaterolling圖2.2熱軋工藝流程示意圖Figure2.2Schematicdiagramofhotrollingprocess2.2試樣制備方法ECCI和EBSD樣品均需要使樣品表面無(wú)應(yīng)力層，在利用400，600，800，1000，1500，2000，3000目砂紙打磨后，利用電解拋光技術(shù)制備出表面無(wú)劃痕，無(wú)應(yīng)力層的ECCI和EBSD樣品。具體電解拋光工藝如下：電解拋光液體積百分比為10%的高氯酸酒精溶液，電壓20V，電流1A，溫度為-30℃。TEM樣品制備則需要切出500微米厚薄片，電火花影響層約200微米，利用砂紙打磨至50微米，金屬?zèng)_孔器沖孔出直徑3mm圓片，使用電解雙噴儀減薄出薄區(qū)。具體工藝如下：雙噴液為體積百分比為10%的高氯酸酒精，電流20~30mA，溫度為-30℃。

重慶理工大學(xué)碩士學(xué)位論文12HIP方法制備的ODS鋼采用楔形板軋制方案，本實(shí)驗(yàn)采用楔形板軋制，利用楔形板不同位置的高度差，達(dá)到一次軋制獲得多個(gè)變形量的高通量的實(shí)驗(yàn)?zāi)康?在相應(yīng)的變形量處選取實(shí)驗(yàn)所需的樣品，楔形板軋制如圖2.1所示。HIP方法制備出的ODS鋼僅考察1100℃軋制過(guò)程中的微觀組織，微觀織構(gòu)，顯微硬度和高溫強(qiáng)度。HIP法制備出的ODS鋼于馬弗爐1200℃加熱30分鐘，取出完成熱軋，完成熱軋后，淬火，快冷至室溫，具體實(shí)驗(yàn)工藝如下圖所示。圖2.1楔形板軋制示意圖Figure2.1Schematicdiagramofwedgeplaterolling圖2.2熱軋工藝流程示意圖Figure2.2Schematicdiagramofhotrollingprocess2.2試樣制備方法ECCI和EBSD樣品均需要使樣品表面無(wú)應(yīng)力層，在利用400，600，800，1000，1500，2000，3000目砂紙打磨后，利用電解拋光技術(shù)制備出表面無(wú)劃痕，無(wú)應(yīng)力層的ECCI和EBSD樣品。具體電解拋光工藝如下：電解拋光液體積百分比為10%的高氯酸酒精溶液，電壓20V，電流1A，溫度為-30℃。TEM樣品制備則需要切出500微米厚薄片，電火花影響層約200微米，利用砂紙打磨至50微米，金屬?zèng)_孔器沖孔出直徑3mm圓片，使用電解雙噴儀減薄出薄區(qū)。具體工藝如下：雙噴液為體積百分比為10%的高氯酸酒精，電流20~30mA，溫度為-30℃。


本文編號(hào)：3473288