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溫度對鎳基高溫合金粉末氧化行為的影響

發(fā)布時間:2021-01-30 22:45
  通過化學分析、掃描電子顯微鏡觀察、X射線衍射分析及X射線光電子能譜分析等方法,研究了溫度對鎳基高溫合金粉末氧化行為的影響。結果表明,室溫條件下,粉末氧含量(質量分數(shù))較低(0.012%),粉末表面發(fā)生部分氧化,表面存在Ni、Cr、Ti等元素的單質態(tài)和以Ni(OH)2、Cr2O3、TiO2為主的氧化物/氫氧化物;當溫度上升至150℃,氧含量增加不明顯;隨著溫度進一步提高至250℃,粉末氧含量明顯增加,達到0.034%,粉末表面全部氧化,表面主要由Ni(OH)2、Cr2O3、TiO2組成。溫度對鎳基高溫合金粉末氧化行為影響顯著,合理控制溫度可以獲得低氧含量的粉末,本研究所用鎳基高溫合金粉末大氣條件下最高處理溫度為150℃。 

【文章來源】:粉末冶金技術. 2020,38(03)北大核心

【文章頁數(shù)】:5 頁

【部分圖文】:

溫度對鎳基高溫合金粉末氧化行為的影響


不同熱處理溫度下鎳基高溫合金粉末的氧含量(質量分數(shù))

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將不同溫度處理后的粉末送入真空室進行X射線光電子能譜分析,得到不同熱處理溫度下鎳基高溫合金粉末表面的X射線光電子能譜全譜(XPS survey spectrum)。如圖4所示,經不同溫度處理后的粉末X射線光電子能譜全譜變化不大,粉末表面成分主要有Ni、Cr、Ti、O、C等元素,未檢測到Al、W、Mo、Nb等元素存在。在X射線光電子能譜中,由于電子的自旋–軌道耦合使Ni 2p能級分解為兩個能級,即Ni 2p3/2和Ni 2p1/2。圖5是不同熱處理溫度下粉末表面的Ni 2p窄能量掃描X射線光電子能譜[17–18]。如圖所示,室溫條件下粉末表面存在明顯的Ni 2p3/2和Ni 2p1/2峰,分別在852.4 eV和869.2 eV;同時也存在Ni(OH)22p3/2和Ni(OH)2 2p1/2峰,分別在856 eV和873.5 eV,這與標準Ni、Ni(OH)2譜圖及文獻報道基本一致[19–20]。由此可知,室溫條件下粉末表面Ni元素發(fā)生部分氧化,水合反應形成Ni(OH)2,因此粉末表面同時存在單質態(tài)Ni和Ni(OH)2;當溫度增加至150℃,粉末表面的Ni 2p3/2峰明顯減弱,說明Ni單質元素減少,Ni元素氧化程度增加;當溫度達到250℃,粉末表面的Ni 2p3/2和Ni 2p1/2峰消失,而Ni(OH)2 2p3/2和Ni(OH)2 2p1/2峰強度增加,這表明粉末表面Ni元素發(fā)生氧化水合,全部形成Ni(OH)2,基本不存在Ni單質。

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在X射線光電子能譜中,由于電子的自旋–軌道耦合使Ni 2p能級分解為兩個能級,即Ni 2p3/2和Ni 2p1/2。圖5是不同熱處理溫度下粉末表面的Ni 2p窄能量掃描X射線光電子能譜[17–18]。如圖所示,室溫條件下粉末表面存在明顯的Ni 2p3/2和Ni 2p1/2峰,分別在852.4 eV和869.2 eV;同時也存在Ni(OH)22p3/2和Ni(OH)2 2p1/2峰,分別在856 eV和873.5 eV,這與標準Ni、Ni(OH)2譜圖及文獻報道基本一致[19–20]。由此可知,室溫條件下粉末表面Ni元素發(fā)生部分氧化,水合反應形成Ni(OH)2,因此粉末表面同時存在單質態(tài)Ni和Ni(OH)2;當溫度增加至150℃,粉末表面的Ni 2p3/2峰明顯減弱,說明Ni單質元素減少,Ni元素氧化程度增加;當溫度達到250℃,粉末表面的Ni 2p3/2和Ni 2p1/2峰消失,而Ni(OH)2 2p3/2和Ni(OH)2 2p1/2峰強度增加,這表明粉末表面Ni元素發(fā)生氧化水合,全部形成Ni(OH)2,基本不存在Ni單質。圖5 不同熱處理溫度下鎳基高溫合金粉末表面Ni 2p窄能量掃描X射線光電子能譜圖

【參考文獻】:
期刊論文
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[7]氬氣霧化鎳基高溫合金粉末的氧化特性研究[J]. 劉娜,李周,張國慶,袁華,許文勇,張勇.  稀有金屬. 2011(04)



本文編號:3009712

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