隨著航空航天等高新技術(shù)的發(fā)展,對(duì)于寬溫域潤(rùn)滑材料的需求越來越迫切。但是至今沒有發(fā)現(xiàn)單一的潤(rùn)滑材料能夠?qū)崿F(xiàn)寬溫域內(nèi)的連續(xù)潤(rùn)滑。研究發(fā)現(xiàn)在高溫環(huán)境下Inconel 718合金鋼中Ti和Cr元素會(huì)發(fā)生擴(kuò)散,與氧反應(yīng)生成具有潤(rùn)滑性的物質(zhì),但是合金鋼中這種元素的含量較少。因此,本論文首先對(duì)合金鋼在高溫下的循環(huán)氧化進(jìn)行研究,并對(duì)元素?cái)U(kuò)散機(jī)制進(jìn)行主動(dòng)控制。接著采用多弧離子鍍和磁控濺射技術(shù)在Inconel 718高溫合金表面分別制備Cr_xTi_yO_z、Zn_xTi_yO_z和Ag_xV_yO_z雙金屬氧化物薄膜,并對(duì)制備的薄膜進(jìn)行退火處理。系統(tǒng)地對(duì)退火處理前后三種不同系列薄膜的結(jié)構(gòu)、力學(xué)性能和摩擦學(xué)性能相關(guān)性進(jìn)行了研究,以進(jìn)一步拓展氧化物涂層的工程應(yīng)用范圍,為寬溫域自潤(rùn)滑材料提供技術(shù)支撐。主要開展的工作如下:（1）將Inconel 718合金鋼加熱至1000℃保溫120min后隨爐冷卻,分別進(jìn)行四次循環(huán)高溫氧化。合金鋼中... 

【文章來源】：陜西科技大學(xué)陜西省

【文章頁數(shù)】：89 頁

【學(xué)位級(jí)別】：碩士

【部分圖文】：

模型示意圖SisubstrateZnTiO3coatingSlidingalong（104）c）沿（104）晶面滑動(dòng)的速度自適應(yīng)

圖 1-5 多弧離子鍍工作原理igure1-5 The working principle diagram of arc ion plati員從上世紀(jì) 90 年代就開始嘗試?yán)么趴貫R射 Incerti 等[68,69]通過把軟金屬?gòu)?fù)配到氮化物硬質(zhì)良好的潤(rùn)滑與耐磨性，但是當(dāng)溫度較低時(shí)涂層涂層的摩擦因數(shù)，研究人員[70]制備出了 MoCN溫環(huán)境下的摩擦因數(shù)較低，但是摩擦因數(shù)隨著環(huán)境下涂層的摩擦因數(shù)又會(huì)降低至 0.3 左右。bN/Ag 等自潤(rùn)滑涂層，將潤(rùn)滑溫度上限提高到溫環(huán)境下作為潤(rùn)滑劑，在中高溫度段生成的過金屬氧化物均能起到有效潤(rùn)滑作用。盡管離子N 基寬溫域自潤(rùn)滑涂層方面的應(yīng)用仍然較少，要求較高，對(duì)于 Mo、V、Nb 等高熔點(diǎn)靶材來

a）多弧離子鍍?cè)O(shè)備示意圖 b）多弧離子鍍膜機(jī)圖 2-4 多弧離子鍍?cè)O(shè)備Figure2-4 The apparatus of arc ion plating控濺射鍍膜設(shè)備如圖 2-5 所示。設(shè)備主要包括圓柱腔室、抽真空系統(tǒng)、樣品盤源、射頻電源、偏壓電源、冷卻系統(tǒng)、樣品臺(tái)等。其中真空抽氣系統(tǒng)由機(jī)械泵、前級(jí)閥、閘板閥等組成。真空腔室壁配有陽極離子源，可對(duì)樣品進(jìn)行清洗以的質(zhì)量和附著力。同時(shí)真空腔室內(nèi)制有加熱裝置可加熱到 450℃，靶的冷卻利冷卻。真空室內(nèi)帶有襯板，避免濺射靶材材料直接濺射在腔室內(nèi)壁。靶材作為，既可用直流控制也可使用射頻調(diào)節(jié)，要求靶材應(yīng)具有高純度、表面清潔性好樣品盤襯板基體偏壓襯底架

【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
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碩士論文
[1]多弧離子鍍制備Ti/TiN多層薄膜的摩擦學(xué)和耐腐蝕性能[D]. 史鑫.蘭州理工大學(xué) 2016
[2]有機(jī)—無機(jī)雜化功能涂層的制備與性質(zhì)[D]. 張紀(jì)斌.吉林大學(xué) 2015
[3]Ni-Cr-Al合金高溫氧化及影響機(jī)理研究[D]. 梁婷.沈陽師范大學(xué) 2011



本文編號(hào)：2952909