超聲輔助噴射電沉積Ni-TiN納米復(fù)合鍍層的制備及表征
【學(xué)位單位】:東北石油大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位年份】:2018
【中圖分類】:TG174.4
【部分圖文】:
因此工藝過程與電沉積相類似,故制備 Ni-TiN 納米復(fù)合鍍層工藝過程如圖2.2 所示。圖 2.2 試驗(yàn)工藝流程圖2.4 鍍前預(yù)處理基體的鍍前處理是制備納米復(fù)合鍍層中的重要步驟之一,而且對(duì)于超聲輔助噴射電沉積納米復(fù)合鍍層而言,鍍前處理則顯得更為重要。這是因?yàn)樵阱儗又苽溥^程中,鍍液是由噴嘴噴鍍到試件表面,鍍液中的 Ni2+需要在陰極表面進(jìn)行還原,若試件表面存在油污等雜質(zhì),將嚴(yán)重影響 Ni2+的還原過程,因此超聲輔助噴射電沉積需要獲得比常規(guī)電沉積更清潔的試件表面。對(duì)試件基體的鍍前處理應(yīng)為除銹、機(jī)械打磨、拋光、化學(xué)除油,酸洗活化。試件基體需要依次用 200 #,400 #,600 #,800 #,1000 #
電流密度、噴射速度、pH 值以及鍍液溫度等參數(shù)對(duì) Ni-T性能影響。通過控制工藝參數(shù),改變晶體形核方式,進(jìn)而。因此,本章首先對(duì)超聲輔助噴射電沉積 Ni-TiN 納米復(fù)為進(jìn)行研究。濃度對(duì)合金鍍層沉積速率的影響現(xiàn),硫酸鎳濃度會(huì)對(duì)電流效率產(chǎn)生一定影響,硫酸鎳濃度加,金屬沉積速率增加,導(dǎo)致電解質(zhì)分散能力下降,鍍層鎳濃度較低時(shí),電解質(zhì)分散能力增加,但電流效率下降,此硫酸鎳濃度要控制在一個(gè)合理的范圍內(nèi)。中的主鹽為硫酸鎳,通過單因素試驗(yàn)確定硫酸鎳濃度對(duì)積速率的影響。研究過程中,保持各項(xiàng)噴射沉積工藝參數(shù)噴射速度 4 m/s,電流密度 10 A/dm2,超聲波功率 150W對(duì)超聲輔助噴射電沉積Ni-TiN納米復(fù)合鍍層沉積速率的
東北石油大學(xué)碩士學(xué)位論文鍍層的沉積速率并非越快越好,因此我們?yōu)榱吮WC納米復(fù)調(diào)節(jié)鍍液中的主鹽濃度,以此來調(diào)節(jié)鍍層沉積速率。度對(duì)Ni-TiN納米復(fù)合鍍層沉積速率及TiN粒酸鎳濃度 320 g/l、鍍液溫度 50℃,電流密度 10A/dm2, 值 4 等條件不變,單獨(dú)改變鍍液噴射速度對(duì) Ni-TiN 納米iN 粒子復(fù)合量影響如圖 3.2 所示。
【參考文獻(xiàn)】
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1 夏法鋒;超聲—電沉積鎳基TiN納米復(fù)合鍍層的研究[D];大連理工大學(xué);2009年
本文編號(hào):2827265
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