發(fā)布時間：2018-11-28 08:08

【摘要】：利用磁控濺射技術(shù)在C103型Nb基高溫合金上制備了含和不含CrON擴散阻擋層的NbCrAl涂層,對比研究了2種涂層分別經(jīng)900℃和1 000℃真空熱處理后的元素擴散行為。結(jié)果表明:NbCrAl涂層以Cr2Nb和AlNb2相為主,含非晶態(tài)組織;真空熱處理后生成了NbAl3和(Nb,Cr)沉淀相。熱處理溫度由900℃升至1 000℃時,NbCrAl涂層中元素擴散速度加快。不含擴散阻擋層樣品中Cr和Al元素擴散至基體的含量分別為2.76wt%和1.21wt%,而含擴散阻擋層樣品中Cr和Al元素擴散到基體的含量分別僅為2.52wt%和0.84wt%。擴散阻擋層保持連續(xù),且與涂層及基體的界面結(jié)合良好,經(jīng)高溫處理后主要以密排六方結(jié)構(gòu)的Cr2O3和Al2O3相為主,有效地抑制了元素互擴散。
[Abstract]:NbCrAl coatings with and without CrON diffusion barrier layers were prepared on C103 Nb based superalloys by magnetron sputtering technique. The diffusion behavior of the two coatings after vacuum heat treatment at 900 鈩，

本文編號：2362305