發(fā)布時間：2018-11-06 16:04

【摘要】：采用粒狀滲劑分別在滲硼硅溫度為850、900、950℃,保溫時間為2、8 h的工藝參數(shù)下對純鎳表面進(jìn)行固體滲硼硅處理。用光學(xué)顯微鏡(OM)對滲層橫斷面進(jìn)行了顯微組織觀察,用顯微硬度計測試滲層的硬度分布,用M200型磨損試驗機(jī)研究未滲硼硅和滲硼硅純鎳的耐磨性,采用循環(huán)氧化試驗研究未滲硼硅和滲硼硅純鎳的抗高溫氧化性。結(jié)果表明,純鎳滲硼硅后,滲層為硅化物層和硼化物層,且硅化物和硼化物的顯微硬度都大于基體硬度,滲層厚度隨著滲硼硅時間和溫度的增加而增加,其范圍約為36~237?m,用X射線衍射儀(XRD)分析出滲層為硼化物層(Ni2B)和硅化物層(Ni3Si、Ni5Si2和Ni2Si)。磨損試驗結(jié)果表明滲硼硅后試樣的耐磨性得到提高�？垢邷匮趸囼灲Y(jié)果顯示未滲硼硅純鎳試樣抗高溫氧化性優(yōu)于滲硼硅后純鎳試樣。
[Abstract]:Solid boronized silicon was treated on the surface of pure nickel by granularizing agent under the technological parameters of boronizing silicon temperature 850900950 鈩，

本文編號：2314771