不同硅含量鋁合金的微弧氧化及膜層特性研究
[Abstract]:The film-forming process, film characteristics and energy consumption of four kinds of aluminum alloys containing 0.5% and 12.0% Si in different micro-arc oxidation (MAO) modes for 15 min were studied, respectively. The films were characterized by SEM,EDS,XRD. The results show that under constant current condition, with the increase of silicon content in the matrix, the rising rate of the forward voltage of the alloy decreases gradually, the waiting time before starting arc is prolonged significantly, and the voltage of the starting arc voltage and the discharge reaction phase decrease gradually. The negative current density increased gradually and the growth rate of the film gradually decreased, but the surface morphology of each Al-Si alloy was smaller, and the films formed in constant current and constant voltage MAO modes were mainly composed of 緯-Al2O3, 偽-Al2O3 and mullite. With the increase of silicon content in the matrix, the content of Al2O3 decreases gradually, and the unit volume energy consumption of the film layer increases with the increase of Si content in the same MAO mode. The characteristics and energy consumption of MAO films prepared by the same Al-Si alloy under different oxidation modes are quite different.
【作者單位】: 華南理工大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院;
【基金】:廣東省自然科學(xué)基金資助項(xiàng)目(S2013010015211) 華南理工大學(xué)中央高校基本科研業(yè)務(wù)費(fèi)專項(xiàng)資金資助項(xiàng)目(2012ZZ0011)~~
【分類號】:TG174.4
【參考文獻(xiàn)】
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【共引文獻(xiàn)】
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【二級參考文獻(xiàn)】
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7 朱e,
本文編號:2275465
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