本文選題：化學拋光　切入點：高硅鋁合金　出處：《材料保護》2015年12期

【摘要】：目前以H3PO4、H2SO4為基礎的兩酸無煙化學拋光體系對高硅鋁合金的拋光效果不理想。在磷酸+硫酸+雙氧水的基礎液中,添加一定量的硫酸鐵、三氧化二鉻以及過硫酸銨,考察了不同質量的添加物對6063高硅鋁合金化學拋光效果的影響。采用簡單正交試驗方式,以試樣的反光率及麻點數量表征試樣的拋光效果,優(yōu)選了較優(yōu)的拋光液成分。結果表明:按硫酸(85%)10 m L、磷酸(95%)20 m L、雙氧水2 m L、硫酸鐵0.1 g、三氧化二鉻0.1 g、過硫酸銨0.1 g配制的拋光液拋光效果最佳。
[Abstract]:At present, the smokeless chemical polishing system based on H _ 3PO _ 4 and H _ 2SO _ 4 is not ideal for high silicon aluminum alloy.The effect of additives of different quality on the chemical polishing of 6063 high silicon aluminum alloy was investigated by adding certain amount of ferric sulfate, chromium trioxide and ammonium persulfate into the basic solution of hydrogen peroxide phosphate.The polishing effect of the sample was characterized by the reflectivity of the sample and the number of points in the sample by the simple orthogonal test method, and the better polishing liquid composition was selected.The results showed that the best polishing effect was obtained when the polishing solution was prepared in the range of 85 渭 m / L sulfuric acid, 20 mL phosphate, 2 mL hydrogen peroxide, 0.1 g ferric sulfate, 0.1 g chromium trioxide and 0.1 g ammonium persulfate.
【作者單位】： 江西理工大學應用科學學院礦冶工程系;
【基金】：國家國際科技合作專項(2011DFR50970)資助
【分類號】：TG175.3

【參考文獻】

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【共引文獻】

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【二級參考文獻】

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本文編號：1699212