本文關鍵詞：雙輝光離子滲金屬系統(tǒng)結構改進和電源控制研究　出處：《中南民族大學》2015年碩士論文　論文類型：學位論文

  更多相關文章： 離子滲金屬 打弧 雙輝光放電 溫度控制 電極改造

【摘要】：雙層輝光離子滲金屬技術是基于輝光放電原理為基礎而發(fā)展起來的一項表面改性技術。雙層輝光放電是一個復雜的離子化學和熱處理過程。該項工藝中,爐體結構和所使用的電源對工件處理的效果有直接影響。雙層輝光工藝采用傳統(tǒng)的雙電源進行放電,當電壓達到一定值時,兩臺直流高壓電源之間會相互耦合,不能正常工作。為了解決雙輝光離子滲金屬雙電源大功率、相互耦合的問題,本文提出了改進電源設計方案和新的控制方案,并改進了電極結構,以達到優(yōu)化電源結構的目的,并同時滿足雙層輝光離子滲金屬技術對電參數(shù)的要求。具體進行了以下工作:針對雙層輝光離子滲金屬電源需滿足大功率輸出、以及負載與供電設備實現(xiàn)隔離的要求,本課題設計采用兩臺單相直流脈沖電源供電。以TL494芯片產(chǎn)生頻率穩(wěn)定的控制信號基波,并通過改變基波的占空比進行輸出電壓的調節(jié),以改進電源的效率。為了滿足雙層輝光離子滲金屬不同處理階段對電源電參數(shù)的要求,在占空比能夠自由調節(jié)的同時,增加了溫度控制系統(tǒng)。使得電源功率的輸出隨著爐體溫度、壓強的變化進行自動調節(jié)。還改進了陰極和源極的電極結構。這些措施避免了傳統(tǒng)雙層輝光離子滲金屬設備可能出現(xiàn)的陰極、源極打弧,以及電源可能出現(xiàn)的安全問題。雙層輝光離子滲金屬設備在工作初始階段,在輸出電壓一定的情況下,電源的峰值電流不會很高;在反應中、后期過程中,電壓輸出不變,但是電流卻會隨著反應的進行而持續(xù)增大。為了避免因電源輸出電流過大影響對材料表面處理的效果,本文采用恒壓溫控調節(jié)的電源工作模式,避免了傳統(tǒng)雙層輝光離子滲金屬過程中需要手動切換電源工作模式,簡化操作,并保證電源運行的安全。本文對比傳統(tǒng)的雙層輝光離子滲金屬電源,提出了改進電源的設計指標,并給出了相應設計方案。通過仿真對電源各模塊電路進行了測試,也提出需要進一步探討的問題。
【學位授予單位】：中南民族大學
【學位級別】：碩士
【學位授予年份】：2015
【分類號】：TG173
，

本文編號：1314961