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Ti6Al4V表面Al 2 O 3 /MoS 2 涂層的陰極等離子電解沉積及性能

發(fā)布時間:2025-03-30 00:06
   利用陰極等離子電解沉積技術(shù)(CPED)在Ti6Al4V表面制備了Al2O3/Mo S2減磨耐蝕復(fù)合涂層。利用XRD、SEM、EDS等檢測手段分析了復(fù)合涂層的形貌、物相及元素分布。結(jié)果表明,涂層表面呈多孔狀,厚度為100μm,由α-Al2O3、γ-Al2O3與Mo S23相組成。涂層與基體結(jié)合強(qiáng)度達(dá)35 N。與Ti6Al4V相比,該涂層的摩擦系數(shù)降低了1/3,腐蝕電位顯著提高,腐蝕電流密度下降,有效減緩了基體的腐蝕速率。

【文章頁數(shù)】:8 頁

【文章目錄】:
1 實驗材料與方法
2 結(jié)果與討論
    2. 1 涂層物相分析
    2. 2 復(fù)合涂層表面形貌及成分分析
    2. 3 復(fù)合涂層截面形貌及成分分析
3 性能測試
    3. 1 結(jié)合強(qiáng)度分析
    3. 2 摩擦性能
    3. 3 耐蝕性測試
4 結(jié)論



本文編號:4037870

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