發(fā)布時間：2021-02-17 02:33

　　利用掃描電子顯微鏡（SEM）、X射線衍射儀（XRD）、透射電鏡（TEM）和俄歇電子能譜儀（AES）研究了AlON/TiAlON_D/TiAlON_M/Cu選擇性吸收涂層高溫真空條件下顯微形貌、結(jié)構(gòu)與化學(xué)成分的變化。結(jié)果表明,退火前后選擇性吸收涂層的多層膜結(jié)構(gòu)和微觀形貌保持穩(wěn)定。制備態(tài)涂層的AlON層和TiAlON_D層為非晶結(jié)構(gòu),TiAlON_M層由非晶基體和分散的晶粒組成。550℃高溫真空退火24 h后,TiAlON_M層發(fā)生晶化,晶粒長大。退火過程中,O元素從AlON層擴散至TiAlON雙吸收層,而N元素從TiAlON雙吸收層擴散至AlON層,同時膜層界面區(qū)域變寬。高溫真空處理后涂層的吸收率略有降低,而發(fā)射率保持不變。晶化導(dǎo)致TiAlON_M層吸光性能下降,以及N和O元素擴散導(dǎo)致最優(yōu)化結(jié)構(gòu)被破壞是涂層吸收率衰減的主要原因。涂層在真空下熱穩(wěn)定激活能為189.5 k J·mol^-1,表明涂層具有較好的熱穩(wěn)定性。 

【文章來源】：稀有金屬. 2016,40(09)北大核心

【文章頁數(shù)】：6 頁

【文章目錄】：
1 實驗
2 結(jié)果與討論
    2.1 涂層顯微組織分析
    2.2 涂層相結(jié)構(gòu)分析
    2.3 涂層成分變化分析
    2.4 涂層光學(xué)性能
3 結(jié)論


【參考文獻】：
期刊論文
[1]中頻磁控濺射制備錳銅傳感器用合金薄膜的工藝[J]. 張延松,牟宗信,吳敏,丁昂,牟曉東,錢坤明.  稀有金屬. 2014(03)

碩士論文
[1]金屬氮化物光譜涂層制備與性能研究[D]. 杜淼.北京有色金屬研究總院 2011



本文編號：3037284