【摘要】：目的哈氏合金C-276帶材被廣泛用作第二代高溫超導(dǎo)體YBCO的金屬襯底,其表面拋光質(zhì)量(粗糙度Ra)要求極為嚴(yán)格。為了保證拋光質(zhì)量就要有效控制電化學(xué)拋光液,對拋光液的變化及失效與否進(jìn)行分析。方法以哈氏合金C-276帶材為研究對象,采用非接觸式電化學(xué)拋光方法,使用掃描電鏡、原子力顯微鏡、金相顯微鏡、微波等離子體原子發(fā)射光譜儀等儀器設(shè)備,闡明了拋光液中H_3PO_4和H_2SO_4等主要成分的作用及工藝要求,并測定單位體積拋光液在一定時間內(nèi)通過電量(Ah/L)后,H_3PO_4、H_2SO_4含量及Ni、Cr、Mo等金屬離子濃度。結(jié)果當(dāng)H_3PO_4、H_2SO_4含量分別在775~1013 g/L、318~451 g/L范圍內(nèi),Ni、Cr、Mo三種金屬離子質(zhì)量濃度分別小于7.3、2.7、3.4 g/L時,C-276帶材表面的粗糙度才能滿足工藝要求Ra1 nm(5μm×5μm)。結(jié)論通過對電化學(xué)拋光液中的H_3PO_4、H_2SO_4、添加劑、金屬離子濃度等有效控制,采用非接觸式電化學(xué)拋光,實現(xiàn)了千米級哈氏合金第二代高溫超導(dǎo)帶材的連續(xù)生產(chǎn),并且表面粗糙度Ra1 nm。
文內(nèi)圖片：
圖片說明：Ni、Cr、Mo三種金屬離子濃度與電量的關(guān)系
[Abstract]:Objective Hart alloy C 鈮，

本文編號：2510121