發(fā)布時間：2018-11-17 16:47

【摘要】：本研究結(jié)合CVD(chemical vapor deposition,CVD)-W材料實際應(yīng)用對其性能及組織結(jié)構(gòu)的要求,詳細討論了隨生長階段的變化CVD-W晶體生長習性,獲得了CVD-W表面形貌-晶粒生長尺寸-表面粗糙度三者與涂層厚度之間的關(guān)系,為CVD-W材料及技術(shù)在半導體行業(yè)及相關(guān)高溫發(fā)熱及防護領(lǐng)域中的應(yīng)用和推廣提供了借鑒。
[Abstract]:According to the requirements of CVD (chemical vapor deposition,CVD)-W material for its properties and microstructure, the growth habits of CVD-W crystals with the growth stage are discussed in detail. The relationship between the surface morphology, grain growth size and surface roughness of CVD-W is obtained, which provides a reference for the application and popularization of CVD-W materials and technology in semiconductor industry and related high temperature heating and protection fields.
【作者單位】： 國家鎢材料工程技術(shù)研究中心廈門鎢業(yè)股份有限公司;
【基金】：中國博士后科學基金第56批面上項目(2014M561867)
【分類號】：TG146.411

【相似文獻】

相關(guān)期刊論文 前10條

1 張學金;;化學氣相沉積新方法[J];包裝工程;1982年04期

2 王忠恕;化學氣相沉積在機械工業(yè)中的應(yīng)用[J];熱加工工藝;1983年02期

3 沈啟賢;歐洲第五屆化學氣相沉積會議在瑞典召開[J];兵器材料科學與工程;1985年12期

4 張長鑫;化學氣相沉積制取鎢[J];稀有金屬;1987年03期

5 韓同寶;;化學氣相沉積設(shè)備與裝置[J];化學工程與裝備;2011年03期

6 ;淺談化學氣相沉積新工藝[J];機械工人技術(shù)資料;1975年07期

7 H.E.Hintermann;曾憲國;;耐磨和耐腐蝕的化學氣相沉積層的應(yīng)用[J];國外化學熱處理;1982年06期

8 王忠恕;等離子體激發(fā)下的化學氣相沉積[J];機械工程材料;1983年02期

9 盧燕平,張長鑫,趙海濱,韓文禮;鋼表面化學氣相沉積鉭涂層的研究[J];北京鋼鐵學院學報;1984年02期

10 ;第二屆化學氣相沉積學術(shù)交流會征集論文[J];真空科學與技術(shù);1987年01期

相關(guān)會議論文 前1條

1 浦鴻汀;孫霞容;;化學氣相沉積聚合制備聚乙�；鶎Ρ綋味谆捌湫阅艿难芯縖A];第五屆中國功能材料及其應(yīng)用學術(shù)會議論文集Ⅲ[C];2004年

相關(guān)博士學位論文 前1條

1 楊詩瑞;化學氣相沉積制備高純度Re、Ir的相關(guān)機理研究[D];北京理工大學;2015年

相關(guān)碩士學位論文 前1條

1 周磊;硬質(zhì)合金高溫化學氣相沉積TiN涂層工藝及性能研究[D];西華大學;2011年

，

本文編號：2338478