高活性氧化銅的制備工藝研究
本文關(guān)鍵詞:高活性氧化銅的制備工藝研究
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【摘要】:以硫酸銅、氫氧化鈉為主要原料,采用絡(luò)合沉淀法,通過(guò)加入合適的助劑制得高活性氧化銅。研究了助劑種類、絡(luò)合劑種類等對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量的影響,確定了最佳反應(yīng)條件。XRD、SEM及光學(xué)顯微等分析結(jié)果表明,產(chǎn)品中只存在單一的氧化銅相,產(chǎn)品的分散性較好,呈近似球狀顆粒,粒徑在1~2μm左右。化學(xué)分析結(jié)果表明,活性氧化銅的純度在99%以上、溶解時(shí)間為15 s左右。
【作者單位】: 合肥工業(yè)大學(xué)化學(xué)與化工學(xué)院;
【關(guān)鍵詞】: 高活性氧化銅 絡(luò)合沉淀 印制電路板
【分類號(hào)】:TQ131.21
【正文快照】: 氧化銅是一種反磁性半導(dǎo)體,具有獨(dú)特的物理和化學(xué)性能,使其在催化劑[1]、抗菌材料[2]、氣體傳感器[3]、鋰離子電極材料[4]等諸多領(lǐng)域得到廣泛的應(yīng)用。根據(jù)用途與活性的不同,將氧化銅分為普通氧化銅和活性氧化銅;钚匝趸~現(xiàn)主要應(yīng)用于印制電路板(PCB)電鍍銅工藝上。隨著微電
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,本文編號(hào):536035
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