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石墨烯的Bottom-up法制備技術(shù)新進展

發(fā)布時間:2021-11-04 12:01
  隨著石墨烯需求量的不斷加大,掌握高效的石墨烯制備方法很有必要。石墨烯的制備方法分為Top-down和Bottom-up兩大類,但Top-down法制備石墨烯存在耗時長、產(chǎn)品尺寸小、難以大規(guī)模工業(yè)化應(yīng)用等缺陷,迫切需要一種經(jīng)濟有效的技術(shù)來合成高質(zhì)量、大面積的石墨烯。基于這一目的,文中就Bottom-up法制備石墨烯展開討論,介紹了外延生長法、化學(xué)氣相沉積法(CVD)法、等離子體增強化學(xué)氣相沉積合成(PECVD)法和溶劑熱法等技術(shù),為石墨烯大規(guī)模應(yīng)用鋪路。 

【文章來源】:陜西煤炭. 2020,39(S1)

【文章頁數(shù)】:4 頁

【文章目錄】:
0 引言
1 外延生長法
    1.1 Si C為襯底的外延生長法
    1.2 金屬為襯底的外延生長法
2 化學(xué)氣相沉積(CVD)法
3 等離子體增強化學(xué)氣相沉積合成法
    3.1 等離子體的功效
    3.2 PECVD技術(shù)
4溶劑熱法
5 結(jié)語


【參考文獻】:
期刊論文
[1]Scalable and ultrafast epitaxial growth of single-crystal graphene wafers for electrically tunable liquid-crystal microlens arrays[J]. Bing Deng,Zhaowei Xin,Ruiwen Xue,Shishu Zhang,Xiaozhi Xu,Jing Gao,Jilin Tang,Yue Qi,Yani Wang,Yan Zhao,Luzhao Sun,Huihui Wang,Kaihui Liu,Mark H.Rummel,Lu-Tao Weng,Zhengtang Luo,Lianming Tong,Xinyu Zhang,Changsheng Xie,Zhongfan Liu,Hailin Peng.  Science Bulletin. 2019(10)
[2]石墨烯的等離子體增強化學(xué)氣相沉積法合成[J]. 姚涵,何葉麗,陳育明.  印染. 2018(05)



本文編號:3475685

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