發(fā)布時間：2021-10-12 15:27

　　電沉積技術(shù)是最常用以及最有效的金屬表面處理方法之一。與等離子噴涂、物理氣相沉積以及熱噴涂等技術(shù)相比較,電沉積技術(shù)具有操作簡單、成本低廉、設(shè)備簡單等優(yōu)勢,而且不受基體材料形狀和大小的影響,因此電沉積技術(shù)在金屬防護、制備納米材料和催化材料等領(lǐng)域得到廣泛的研究和應(yīng)用。電沉積Ni-Cr合金鍍層具有許多優(yōu)異的性能。因此Ni-Cr合金鍍層的電沉積工藝和所制備的鍍層的性能研究是本文的重點,而且用納米Ti02粒子在直流和脈沖電沉積條件下對Ni-Cr鍍層進行改性。與Ni-Cr合金鍍層相比較,納米復(fù)合鍍層能很好的提高鍍層的耐腐蝕性、耐磨性以及硬度。本文主要的研究內(nèi)容和結(jié)果如下：（1）運用直流和脈沖電沉積方法能夠成功地制備出Ni-Cr合金鍍層,鍍液主要組成為：CrCl3·6H2O 75g/L, NiSO4·6H2O 50g/L, NiCl2·6H2O 45g/L, H3BO3 50g/L,檸檬酸鈉135g/L,表面活性劑0.2g/L。并且在最優(yōu)鍍液組成和工藝參數(shù)下成功的得到Ni-Cr-TiO2納米復(fù)合鍍層。（2）電沉積方式對于鍍層結(jié)構(gòu)以及性能有很大的影響,與直流Ni-Cr合金鍍層相比,脈沖合金鍍層的晶粒得到... 

【文章來源】：齊魯工業(yè)大學(xué)山東省

【文章頁數(shù)】：83 頁

【學(xué)位級別】：碩士

【部分圖文】：

圖２．１電被實驗裝置圖??２．３．４電渡工藝流程??

２０?（ｄｅｇ．）??圖４．１直流合金鍛層的ＸＲＤ圖譜??圖４．１為直流Ｎｉ－Ｃｒ合金渡層的ＸＲＤ圖譜。圖４．１表明，在２０為４４．４５°，５２．％。??和７６．５３。處出現(xiàn)了衍射峰，其對應(yīng)的是Ｎｉ相的Ｗ?１１），（２０?０）和口?２０）晶面；??在２０為４４．６０。，６５．弘嘴８２．３５。也出現(xiàn)了衍射峰，其對應(yīng)的是Ｃｒ相的（１?１１），口??０?０）和（２?１１）晶面。合金鍛層中Ｎｉ相的最強衍射峰出現(xiàn)在如為４４．４５°處的（１１１）??晶面，Ｃｒ相的最強衍射峰出現(xiàn)在２０為４４．６０°處的。１?０）晶面處。??３１??

用夾子固定好，使其與底面垂直，然后再使用環(huán)氧樹脂塑進行密封，待環(huán)氧??樹脂徹底固化之后進行樣品拋光，最后是運用不同的浸蝕液進行腐蝕拋光，漏出??真正的鍛層進行測試。如圖４．２所示為直流電銀４５分鐘后鑲絡(luò)合金鍛的橫截面的??ＳＥＭ圖，可Ｗ看出儀層的平均厚度在１６微米左右。??無耀瓣菊Ｈｅ韶輯薛??誦勝??圖４．２直流Ｎｉ－Ｃｒ合金壌層的橫截面的ＳＥＭ圖??綜上Ｗ上幾種鍛層的厚度的測試方法，本實驗采用測量誤差最小和測量精度??最高的掃描電鏡法來測量直流轅絡(luò)合金渡層的厚度，測量５個樣品取其平均值。??在最優(yōu)配方和直流最佳工業(yè)條件下，直流電渡１個小時后測量直流德絡(luò)合金被層??最厚可Ｗ到達２０微米，直流轅絡(luò)合金的厚度平均值為１６微米。??４．?１．３直流合金渡層的表面形貌及成分分析??鍛層的表面形貌主要運用掃描電子顯微鏡來觀察表征，本實驗巧采用的掃描??電子思微鏡為Ｑｕａｎｔａ?２００型場發(fā)射環(huán)境掃描電子顯微鏡。并且利用能譜儀來測定鎮(zhèn)??絡(luò)合金錐層的表面成分，對皺層進行點、面成分分析。并且采用原子力顯微鏡來??輔助觀察鑲絡(luò)合金鍛層的表面組織的形貌

【參考文獻】：
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