發(fā)布時(shí)間：2021-08-31 09:21

　　改良西門子法多晶硅生產(chǎn)尾氣回收裝置尾氣粗分離單元、氣體輸送單元、氯化氫吸收單元、氯化氫解析單元、H₂凈化單元五個(gè)單元,還原爐尾氣中雜質(zhì)BC1₃, PC1₃,以及單質(zhì)B, P等通過煙氣吸收、加壓冷凝,吸收解析,氫氣凈化過程中從氫氣中分離,提純后氫氣送至還原爐循環(huán)利用。文章通過分析5個(gè)單元工藝流程中可能存在問題,并提出改進(jìn)方向可以提高循環(huán)氫氣雜質(zhì)去除效果,保證還原爐化學(xué)氣相沉積過程中循環(huán)氫氣純度。 

【文章來源】：化工管理. 2020,(33)

【文章頁數(shù)】：2 頁

【部分圖文】：

改良西門子法尾氣回收工藝流程圖

【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
[1]改良西門子法尾氣回收中影響氯化氫吸收因素的模擬分析[J]. 楊紫琪,張博.  化工時(shí)刊. 2016(07)
[2]增強(qiáng)尾氣回收活性炭吸附柱再生效果的措施[J]. 李鋒,邵楓.  廣東化工. 2015(08)
[3]改良西門子法生產(chǎn)多晶硅工藝設(shè)計(jì)探討[J]. 楊濤.  貴州化工. 2009(03)
[4]多晶硅生產(chǎn)中回收氫氣的凈化[J]. 劉建軍.  有色冶煉. 2000(06)



本文編號：3374645