電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法測定氟化氫氣體中16種金屬元素
發(fā)布時(shí)間:2021-01-27 20:14
基于電子工業(yè)對氟化氫氣體中金屬離子含量的嚴(yán)格要求,以自制的簡單的氣體吸收裝置吸收氟化氫氣體,通過吸收前后吸收液的質(zhì)量變化得到氟化氫的質(zhì)量,采用附帶耐氫氟酸進(jìn)樣系統(tǒng)的電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜儀(ICP-AES)在最優(yōu)的儀器工作條件下測定吸收液中的鉀、鎂、鋁、鋇、鋅、鉻、鈷、鎘、鐵、銅、鎳、鉛、錳、鈉、鈣和錫等16種金屬元素的含量。結(jié)果表明:16種金屬元素的質(zhì)量濃度均在一定范圍內(nèi)與其對應(yīng)的光譜強(qiáng)度呈線性關(guān)系,相關(guān)系數(shù)均大于0.999 0,檢出限(3s)為0.10~6.0μg·L-1,測定值的相對標(biāo)準(zhǔn)偏差(n=11)為0.96%~5.0%。
【文章來源】:理化檢驗(yàn)(化學(xué)分冊). 2020,56(08)北大核心
【文章頁數(shù)】:5 頁
【部分圖文】:
吸收裝置示意圖
試驗(yàn)考察了冷卻氣流量分別為1 0.0,1 1.0,12.0,13.0,14.0L·min-1時(shí)對1 000μg·L-1混合標(biāo)準(zhǔn)儲備溶液中16種元素光譜強(qiáng)度的影響。結(jié)果顯示,冷卻氣流量的變化對各元素的光譜強(qiáng)度無明顯影響。綜合考慮,試驗(yàn)選擇冷卻氣流量為12.0L·min-1。2.5霧化氣流量的選擇
試驗(yàn)考察了霧化氣流量分別為0.30,0.40,0.45,0.50,0.55,0.60,0.70 L·min-1時(shí)對1 000μg·L-1混合標(biāo)準(zhǔn)儲備溶液中16種元素光譜強(qiáng)度的影響,結(jié)果見圖3。由圖3可知:隨著霧化氣流量的增加,各元素光譜強(qiáng)度逐漸增大,其中鋁、鉀、鈉元素光譜強(qiáng)度在霧化器流量為0.40L·min-1達(dá)到最大,其余元素光譜強(qiáng)度則在霧化器流量為0.50L·min-1時(shí)達(dá)到最大。因此,試驗(yàn)選擇霧化氣流量為0.50L·min-1。
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]四氟化硅氣體中雜質(zhì)的檢測及凈化研究進(jìn)展[J]. 張丹輝,唐安江,韋德舉,黃崇. 應(yīng)用化工. 2019(02)
[2]氟化氫在有機(jī)合成中的應(yīng)用[J]. 王鵬. 化學(xué)與黏合. 2017(06)
[3]無水氟化氫的純化工藝研究進(jìn)展[J]. 李丹丹,岳立平,鄭藝. 化學(xué)工程師. 2017(09)
[4]高純電子氣體中金屬雜質(zhì)分析方法概述[J]. 張文娟. 廣州化工. 2015(14)
[5]高純氨中金屬顆粒雜質(zhì)檢測方法[J]. 姜陽,董翊,李春華,陳鷹. 上海計(jì)量測試. 2014(06)
[6]SEMI標(biāo)準(zhǔn)關(guān)于電子氣分析方法概述[J]. 林宇巍. 質(zhì)量技術(shù)監(jiān)督研究. 2011(03)
[7]電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法測定高純六氟化鎢中13種金屬元素[J]. 鄭秋艷,王少波,李紹波,李本東,李翔宇. 理化檢驗(yàn)(化學(xué)分冊). 2010(08)
[8]電子氣體主要雜質(zhì)分析方法綜述[J]. 鄭秋艷,王少波,李少波,李翔宇. 低溫與特氣. 2008(01)
[9]改進(jìn)的揮硅-ICP-MS法測定高純四氯化硅中金屬雜質(zhì)[J]. 郭峰,譚紅,何錦林,謝鋒,曾廣銘,宋光林. 福建分析測試. 2006(04)
[10]膜去溶劑化進(jìn)樣ICP-MS法直接測定電子級高純過氧化氫中痕量金屬雜質(zhì)[J]. 孟蓉,李紅華,黃志齊,童淑麗. 化學(xué)試劑. 2002(04)
本文編號:3003661
【文章來源】:理化檢驗(yàn)(化學(xué)分冊). 2020,56(08)北大核心
【文章頁數(shù)】:5 頁
【部分圖文】:
吸收裝置示意圖
試驗(yàn)考察了冷卻氣流量分別為1 0.0,1 1.0,12.0,13.0,14.0L·min-1時(shí)對1 000μg·L-1混合標(biāo)準(zhǔn)儲備溶液中16種元素光譜強(qiáng)度的影響。結(jié)果顯示,冷卻氣流量的變化對各元素的光譜強(qiáng)度無明顯影響。綜合考慮,試驗(yàn)選擇冷卻氣流量為12.0L·min-1。2.5霧化氣流量的選擇
試驗(yàn)考察了霧化氣流量分別為0.30,0.40,0.45,0.50,0.55,0.60,0.70 L·min-1時(shí)對1 000μg·L-1混合標(biāo)準(zhǔn)儲備溶液中16種元素光譜強(qiáng)度的影響,結(jié)果見圖3。由圖3可知:隨著霧化氣流量的增加,各元素光譜強(qiáng)度逐漸增大,其中鋁、鉀、鈉元素光譜強(qiáng)度在霧化器流量為0.40L·min-1達(dá)到最大,其余元素光譜強(qiáng)度則在霧化器流量為0.50L·min-1時(shí)達(dá)到最大。因此,試驗(yàn)選擇霧化氣流量為0.50L·min-1。
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]四氟化硅氣體中雜質(zhì)的檢測及凈化研究進(jìn)展[J]. 張丹輝,唐安江,韋德舉,黃崇. 應(yīng)用化工. 2019(02)
[2]氟化氫在有機(jī)合成中的應(yīng)用[J]. 王鵬. 化學(xué)與黏合. 2017(06)
[3]無水氟化氫的純化工藝研究進(jìn)展[J]. 李丹丹,岳立平,鄭藝. 化學(xué)工程師. 2017(09)
[4]高純電子氣體中金屬雜質(zhì)分析方法概述[J]. 張文娟. 廣州化工. 2015(14)
[5]高純氨中金屬顆粒雜質(zhì)檢測方法[J]. 姜陽,董翊,李春華,陳鷹. 上海計(jì)量測試. 2014(06)
[6]SEMI標(biāo)準(zhǔn)關(guān)于電子氣分析方法概述[J]. 林宇巍. 質(zhì)量技術(shù)監(jiān)督研究. 2011(03)
[7]電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法測定高純六氟化鎢中13種金屬元素[J]. 鄭秋艷,王少波,李紹波,李本東,李翔宇. 理化檢驗(yàn)(化學(xué)分冊). 2010(08)
[8]電子氣體主要雜質(zhì)分析方法綜述[J]. 鄭秋艷,王少波,李少波,李翔宇. 低溫與特氣. 2008(01)
[9]改進(jìn)的揮硅-ICP-MS法測定高純四氯化硅中金屬雜質(zhì)[J]. 郭峰,譚紅,何錦林,謝鋒,曾廣銘,宋光林. 福建分析測試. 2006(04)
[10]膜去溶劑化進(jìn)樣ICP-MS法直接測定電子級高純過氧化氫中痕量金屬雜質(zhì)[J]. 孟蓉,李紅華,黃志齊,童淑麗. 化學(xué)試劑. 2002(04)
本文編號:3003661
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