本文介紹了應(yīng)用于石墨烯制備的CVD反應(yīng)爐的工藝原理及技術(shù)特點(diǎn),并以一臺(tái)已經(jīng)研制成功的CVD反應(yīng)爐為例,詳細(xì)闡述了該設(shè)備的相關(guān)設(shè)計(jì)思路及特點(diǎn)。該設(shè)備采用先進(jìn)的控溫技術(shù)控制加熱器的快速升溫,通過閉環(huán)控制實(shí)現(xiàn)了工藝過程中腔室壓力的自動(dòng)控制,具有控制精度高、響應(yīng)快、一致性好等優(yōu)點(diǎn)。 

【文章來源】：真空. 2020,57(03)

【文章頁數(shù)】：4 頁

【部分圖文】：

控制系統(tǒng)結(jié)構(gòu)圖

CVD反應(yīng)爐試制成功后，于2014年初交付用戶使用。目前，該設(shè)備已成功完成多種氣相沉積工藝，工藝運(yùn)行過程為全自動(dòng)程序控制，程序運(yùn)行穩(wěn)定，產(chǎn)品一致性好。3.1 性能參數(shù)

【參考文獻(xiàn)】：
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本文編號(hào)：3001142