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預氧化聚碳硅烷先驅(qū)體轉(zhuǎn)化法制備SiC陶瓷介電和吸波性能研究

發(fā)布時間:2018-05-04 02:20

  本文選題:預氧化 + 聚碳硅烷 ; 參考:《功能材料》2017年02期


【摘要】:通過聚碳硅烷(PCS)預氧化后在800~1 200℃熱解制備了SiC陶瓷,采用傅里葉轉(zhuǎn)化紅外光譜(FTIR)與拉曼光譜分別對不同溫度交聯(lián)后PCS及裂解產(chǎn)物進行了表征。并用矩形波導法測試了SiC陶瓷在8.2~12.4GHz(X波段)頻段的復介電常數(shù),利用傳輸線理論計算了試樣的反射率。結(jié)果表明,氧化交聯(lián)過程中PCS通過Si—H鍵和Si—CH_3鍵與氧反應形成Si—OH鍵。SiC陶瓷中自由碳有序度隨著熱解溫度的升高而增加,導致復介電常數(shù)實部及虛部增加。170℃交聯(lián),1 200℃熱解,試樣厚度為3.5 mm的SiC陶瓷,吸收峰值為-18dB,X全波段反射率低于-10dB,呈現(xiàn)出較好的吸波性能。
[Abstract]:SiC ceramics were prepared by pre-oxidation of polycarbosilane and pyrolyzed at 800 鈩,

本文編號:1841155

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