本文選題：金剛石薄膜 + 摻雜電極　； 參考：《功能材料》2017年08期

【摘要】：近年來,摻雜金剛石薄膜作為一種新型電極材料備受關(guān)注。摻雜金剛石電極具有寬電勢窗口、低背景電流、高穩(wěn)定性、低吸附性等優(yōu)點,在電化學(xué)領(lǐng)域具有極大的應(yīng)用潛力。介紹了摻雜金剛石電極的制備、電化學(xué)性質(zhì)及影響因素,綜述了摻雜金剛石電極在電化學(xué)合成、電分析化學(xué)和電化學(xué)水處理等領(lǐng)域的應(yīng)用現(xiàn)狀,展望了摻雜金剛石電極在電化學(xué)領(lǐng)域的應(yīng)用前景。
[Abstract]:In recent years, doped diamond films have attracted much attention as a new electrode material. The doped diamond electrode has many advantages such as wide potential window, low background current, high stability and low adsorbability, so it has great application potential in the field of electrochemistry. The preparation, electrochemical properties and influencing factors of doped diamond electrodes are introduced. The applications of doped diamond electrodes in electrochemical synthesis, electroanalytical chemistry and electrochemical water treatment are reviewed. The application prospect of doped diamond electrode in electrochemical field is prospected.
【作者單位】： 西南科技大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院;固體廢物處理與資源化教育部重點實驗室;國家城市污水處理及資源化工程技術(shù)研究中心;
【基金】：國家科技支撐計劃資助項目(2014BAC13B05)
【分類號】：O646;TQ163

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本文編號：1798525