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采用電化學(xué)石英晶體微天平研究碳酸鈣垢生長規(guī)律及阻垢劑的影響

發(fā)布時(shí)間:2018-04-21 03:15

  本文選題:碳酸鈣垢 + 電化學(xué)石英晶體微天平 ; 參考:《油田化學(xué)》2016年02期


【摘要】:為深入分析碳酸鈣垢生長規(guī)律和阻垢劑對(duì)垢生長動(dòng)力學(xué)的影響,使用電化學(xué)石英晶體微天平(EQCM)快速測垢的方法研究了施加的恒電壓、溫度、Ca~(2+)濃度對(duì)碳酸鈣(CaCO_3)結(jié)垢的影響,評(píng)價(jià)了羥基乙叉二膦酸(HEDP)、膦酰基羧酸(POCA)和氨基三甲叉膦酸(ATMP)3種阻垢劑的阻垢性能,并對(duì)結(jié)垢過程進(jìn)行了分段線性擬合。結(jié)果表明,隨電壓、溫度和Ca~(2+)濃度的增大,CaCO_3結(jié)垢速率增大,其中電壓的影響最大;在50℃時(shí),結(jié)垢量隨阻垢劑濃度的增加而降低;HEDP的最佳加量為5數(shù)10 mg/L,POCA和ATMP的較優(yōu)加量為20 mg/L;在阻垢劑加量為10 mg/L的條件下,CaCO_3結(jié)垢過程中的結(jié)垢量—時(shí)間曲線出現(xiàn)3個(gè)階段:結(jié)垢階段、阻垢劑的擴(kuò)散和不穩(wěn)定作用階段、阻垢劑穩(wěn)定作用階段;通過數(shù)據(jù)擬合得到反映兩個(gè)穩(wěn)定沉積過程的線性動(dòng)力學(xué)方程,以斜率k值表征其結(jié)垢動(dòng)力學(xué)參數(shù),按加入阻垢劑前后的k值之差與未加入阻垢劑k值的比值計(jì)算POCA、HEDP和ATMP的阻垢效率分別為98.50%、93.86%和97.23%,擴(kuò)散時(shí)間分別為1021、622和537 s,ATMP的阻垢效果最好。
[Abstract]:In order to analyze the growth regularity of calcium carbonate scale and the influence of scale inhibitor on scale growth kinetics, the effect of constant voltage, temperature, Ca~ (2+) concentration on calcium carbonate (CaCO_3) scaling was studied by electrochemical quartz crystal microbalance (EQCM), and the hydroxy ethylidene two phosphonic acid (HEDP), phosphonyl carboxylic acid (POCA) and amino three were evaluated. The scale inhibition performance of 3 kinds of ATMP scale inhibitors was performed and the scaling process was piecewise linear. The results showed that with the increase of voltage, temperature and Ca~ (2+) concentration, the scaling rate of CaCO_3 increased, and the effect of voltage was the greatest. At 50, the scale of scaling decreased with the increase of scale of scale inhibitor; the optimum addition of HEDP was 5 10 mg/L, POCA The better addition of ATMP is 20 mg/L, and in the condition of the scale of scale inhibitor adding 10 mg/L, there are 3 stages of scaling time curve in the CaCO_3 scaling process: scaling stage, diffusion and instability stage of scale inhibitor, stable action stage of scale inhibitor, and linear dynamic side reflecting two stable deposition processes through data fitting The scaling kinetics parameters were characterized by the slope k value. The scale inhibition efficiency of HEDP and ATMP was 98.50%, 93.86% and 97.23% respectively according to the ratio of the K value before and after the addition of the scale inhibitor and the ratio of the K value without the scale inhibitor, respectively. The diffusion time was 1021622 and 537 s, respectively. The scale inhibition effect of ATMP was the best.

【作者單位】: 油氣藏與地質(zhì)開發(fā)國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室(西南石油大學(xué));西南石油大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院;西南石油大學(xué)化學(xué)化工學(xué)院;
【分類號(hào)】:TE39;TQ132.32

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本文編號(hào):1780686

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