本文選題：材料　切入點：表面活性劑　出處：《中國激光》2017年12期 　論文類型：期刊論文

【摘要】：為了抑制拋光粉納米顆粒的團聚,改善拋光液的性能,使光學(xué)玻璃獲得更高的拋光速率與更低的表面粗糙度,在氧化鈰拋光液中添加陰離子表面活性劑梅迪蘭,研究了梅迪蘭質(zhì)量分數(shù)對拋光液中粒子粒徑、分散性以及材料去除率和拋光后光學(xué)玻璃表面粗糙度的影響。結(jié)果表明:微量梅迪蘭能顯著改善拋光液中粒子的分散性,抑制納米粒子的團聚,提高拋光液的質(zhì)量;當梅迪蘭質(zhì)量分數(shù)為0~0.32%時,隨著質(zhì)量分數(shù)增大,化學(xué)機械拋光速率先增大后減小,當質(zhì)量分數(shù)為0.26%時達到最大值122nm/min;玻璃的表面粗糙度隨著梅迪蘭質(zhì)量分數(shù)增加而先減小后增大,在質(zhì)量分數(shù)為0.13%時達到最小值0.928nm。
[Abstract]:In order to restrain the agglomeration of polishing powder nanoparticles, improve the properties of polishing solution and make optical glass obtain higher polishing rate and lower surface roughness, the anionic surfactant Medillan was added to the cerium oxide polishing solution. The effects of the mass fraction of Medillan on the particle size, dispersion, material removal rate and surface roughness of polished optical glass were studied. When the mass fraction of Medilan is 0 ~ 0.32, the rate of chemical-mechanical polishing increases first and then decreases with the increase of mass fraction. When the mass fraction is 0.26, the maximum value is 122 nm / min. The surface roughness of the glass decreases first and then increases with the increase of the mass fraction of Medillan, and reaches the minimum value of 0.928 nm when the mass fraction is 0.13.
【作者單位】： 中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機械研究所高功率激光物理聯(lián)合實驗室;中國科學(xué)院大學(xué);上�？萍即髮W(xué)物質(zhì)科學(xué)與技術(shù)學(xué)院;
【基金】：國家國際科技合作專項項目(2010DFB70490)
【分類號】：TL632;TQ171.7

【相似文獻】

相關(guān)期刊論文 前10條

1 翁宗興;;光學(xué)玻璃拋光表面的腐蝕[J];光學(xué)工藝;1977年03期

2 吳新根,陳琨,李常清,李才生;光學(xué)玻璃拋光材料前驅(qū)體的制備研究[J];江西冶金;2005年04期

3 ;化學(xué)機械拋光裝置[J];電鍍與涂飾;2000年06期

4 竇振;;影響化工機械表面粗糙度的因素及改善措施[J];民營科技;2012年03期

5 向國樸;陳高文;邱訓(xùn)高;;反向脈沖電流對鍍層表面粗糙度的影響[J];電鍍與環(huán)保;1992年05期

6 廉進衛(wèi);張大全;高立新;;化學(xué)機械拋光液的研究進展[J];化學(xué)世界;2006年09期

7 王婕;儲向峰;董永平;張王兵;孫文起;;納米氧化鈰拋光液對釕的化學(xué)機械拋光[J];金剛石與磨料磨具工程;2013年01期

8 何文斌;K9玻璃零件表面粗糙度研究[J];光學(xué)技術(shù);1994年04期

9 王斌修,李淑玉,周錦進;扳手的電化學(xué)機械拋光[J];機械工程師;1997年04期

10 危亮華;傅毛生;李艷花;周雪珍;周新木;焦曉燕;李永繡;;氯化鈉和六偏磷酸鈉對氧化鈰拋光ZF7玻璃的協(xié)同增強作用[J];過程工程學(xué)報;2008年06期

相關(guān)博士學(xué)位論文 前3條

1 張鵬;碳化硅單晶襯底超精密拋光關(guān)鍵技術(shù)研究[D];山東大學(xué);2017年

2 陳曉春;化學(xué)機械拋光試驗及其材料去除機理的研究[D];江南大學(xué);2014年

3 孫禹輝;硅片化學(xué)機械拋光中材料去除非均勻性研究[D];大連理工大學(xué);2011年

相關(guān)碩士學(xué)位論文 前9條

1 張念民;鈮酸鋰晶體納米壓痕及化學(xué)機械拋光研究[D];大連理工大學(xué);2015年

2 胡坤;超薄304不銹鋼片Roll-to-Roll固結(jié)磨料化學(xué)機械拋光輥研制[D];河南工業(yè)大學(xué);2015年

3 王金普;硬脆材料（藍寶石、微晶玻璃）晶片化學(xué)機械拋光研究[D];安徽工業(yè)大學(xué);2016年

4 王凱;固結(jié)磨料研磨藍寶石材料去除速率研究[D];南京航空航天大學(xué);2016年

5 史越;游離磨料線切割硅片表面粗糙度的理論分析和實驗研究[D];廣東工業(yè)大學(xué);2014年

6 徐朝閣;鈮酸鋰晶體納米力學(xué)及化學(xué)機械拋光研究[D];大連理工大學(xué);2014年

7 張竹青;SiC單晶片固結(jié)磨料化學(xué)機械拋光液設(shè)計[D];河南工業(yè)大學(xué);2014年

8 劉志響;SiC單晶片固結(jié)磨料化學(xué)機械拋光墊研制[D];河南理工大學(xué);2014年

9 莫益棟;精細霧化施液b斯釺FT-LCD玻璃基板關(guān)鍵技術(shù)研究[D];江南大學(xué);2015年

，

本文編號：1576694