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等離子體電弧高溫處理金剛石自支撐膜的強度和缺陷

發(fā)布時間:2017-12-21 10:17

  本文關鍵詞:等離子體電弧高溫處理金剛石自支撐膜的強度和缺陷 出處:《中國科技論文》2016年10期  論文類型:期刊論文


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【摘要】:為了適應高速氣動強烈沖擊對金剛石自支撐膜光學窗口強度的需要,提出了等離子體電弧高溫處理金剛石自支撐膜以提高其強度的方法,對直徑100mm的金剛石自支撐膜進行低氣壓電弧高溫處理并拋光,獲得了無裂紋的光學級金剛石自支撐膜。應用掃描電鏡、拉曼光譜、正電子湮沒技術和光致發(fā)光譜對金剛石自支撐膜進行表面形貌及缺陷分析,討論了Ar和H在電弧處理中的作用。結(jié)果表明:等離子體處理對不同強度金剛石自支撐膜的強度提高幅度不一,最高可達71.6%;電弧處理后空位濃度相對降低,空位和N雜質(zhì)形成了更多的復合體。,金剛石膜中N雜質(zhì)與空位結(jié)合生成了更多的[N-V]0和[N-V]-是強度提高的重要原因。光學級金剛石自支撐膜強度的提高為長波紅外光學窗口材料在超高音速的應用提供了重要基礎。
【作者單位】: 北京科技大學新材料技術研究院;
【基金】:高等學校博士學科點專項科研基金資助項目(20110006110011)
【分類號】:TQ163;TB383.2
【正文快照】: 高速飛行器的紅外光學窗口在極端條件下承受強烈的氣動加熱和粒子沖蝕,金剛石自支撐膜是在惡劣環(huán)境下長波紅外窗口材料的最主要選擇,因而提高金剛石自支撐膜的斷裂強度極為重要[1-5]。一般來講,可通過強化制備過程來提高金剛石自支撐膜強度,即控制組織結(jié)構(gòu),減少膜中的各種缺陷

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本文編號:1315674

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