溶液組成對焙燒-水化制備氫氧化鎂納米片的影響
本文關鍵詞:溶液組成對焙燒-水化制備氫氧化鎂納米片的影響
更多相關文章: 氫氧化鎂 焙燒 水化介質 表面活性劑 分散性
【摘要】:以團聚態(tài)工業(yè)氫氧化鎂為原料,采用焙燒-水化法制備高分散氫氧化鎂納米片,探討了水化過程中溶液組成對產物形貌和分散性的影響。研究結果表明:采用1 mol/L MgCl_2溶液為水化介質,可促進氫氧化鎂的溶解-重結晶過程,利于形成形貌規(guī)則、分散性較好的氫氧化鎂納米片;同時,在水化介質中添加十二烷基硫酸鈉可降低氫氧化鎂表面電位,抑制納米片團聚,可制備直徑為0.5~0.8μm、團聚粒徑為3.3μm的高分散氫氧化鎂納米片。
【作者單位】: 四川大學化工學院;
【關鍵詞】: 氫氧化鎂 焙燒 水化介質 表面活性劑 分散性
【分類號】:TQ132.2;TB383.1
【正文快照】: 氫氧化鎂是一種生態(tài)環(huán)保材料,用于無機阻燃劑具有無毒、熱穩(wěn)定性高的優(yōu)點。但由于氫氧化鎂表面極性強,常規(guī)方法合成的產物一般團聚嚴重,難以均勻分散在基體中,從而影響了復合材料的阻燃性能和機械加工性能[1]。科研工作者此前多采用水熱法對常溫合成的納米氫氧化鎂進行改性,以
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,本文編號:1024586
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