本文關鍵詞：極紫外波段Ar光譜分析在EAST偏濾器雜質(zhì)屏蔽效應研究中的應用

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【摘要】：在托卡馬克偏濾器區(qū)域充入雜質(zhì)氣體是檢驗偏濾器雜質(zhì)屏蔽效應的重要手段。利用快速極紫外EUV光譜儀對EAST托克馬克裝置上開展的偏濾器Ar雜質(zhì)注入實驗進行觀測。結合NIST原子光譜數(shù)據(jù)庫對2~50 nm范圍內(nèi)不同電離態(tài)Ar的線光譜進行了譜線識別,識別出ArⅣ,ArⅨ-Ⅺ,Ar XⅣ-XⅥ等若干個電離態(tài)的譜線。為了同時觀測等離子體不同區(qū)域的Ar雜質(zhì)行為,在雜質(zhì)注入實驗時重點監(jiān)測Ar XⅥ35.39 nm(Ar XⅥ電離能918.4 eV,主要分布在等離子體芯部)和ArⅣ44.22 nm(ArⅣ電離能9.6 eV,主要分布在等離子體邊界)這兩條譜線。利用該兩條譜線強度隨時間演化的結果初步分析了偏濾器雜質(zhì)屏蔽效應。在同一充氣口不同等離子體位形下的實驗結果表明偏濾器對于從偏濾器區(qū)域注入Ar雜質(zhì)的屏蔽效果優(yōu)于從主等離子體區(qū)域注入,并且下偏濾器及內(nèi)冷泵的綜合粒子排除能力優(yōu)于上偏濾器。
【作者單位】： 中國科學院等離子體物理研究所;中國科學技術大學研究生院科學島分院;General
【關鍵詞】： Ar極紫外光譜 EAST托克馬克 偏濾器 雜質(zhì)屏蔽
【基金】：國家磁約束核聚變能發(fā)展研究專項項目(2014GB124006) 國家自然科學基金項目(11305214,11105181,11275231)資助
【分類號】：O657.3
【正文快照】：

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