發(fā)布時(shí)間：2017-07-26 09:25

  本文關(guān)鍵詞：某頭孢制藥廢水的水質(zhì)指紋特征

  更多相關(guān)文章： 頭孢制藥廢水 水質(zhì)指紋 pH 熒光增敏 熒光猝滅

【摘要】：熒光光譜與水樣一一對應(yīng),被稱為"水質(zhì)指紋"。水質(zhì)指紋可指示污染的出現(xiàn),是新型水質(zhì)預(yù)警方法。頭孢類抗生素是國內(nèi)外使用最多的抗感染藥物,環(huán)境危害較大。我國頭孢類藥物的生產(chǎn)量在逐年增加。因此,研究頭孢類廢水的熒光指紋特征對監(jiān)測該類廢水的排放、保護(hù)水生生態(tài)環(huán)境具有重要的意義。本文研究了某頭孢制藥廢水的水質(zhì)指紋特征。該廢水的水紋上有6個(gè)峰,按發(fā)射波長可以分為兩組,第一組峰的激發(fā)波波長/發(fā)射波波長分別在230/350,275/350,315/350nm附近,第二組分別在225/405,275/410和330/420nm附近。激發(fā)波波長/發(fā)射波波長在230/350nm處的水紋峰強(qiáng)度最強(qiáng)。在同一組中,激發(fā)波長越小的峰的強(qiáng)度越大。pH明顯影響頭孢廢水水紋中峰的位置和強(qiáng)度。隨pH上升,第一組峰的強(qiáng)度會減少,產(chǎn)生熒光淬滅;第二組峰的強(qiáng)度增大,屬于熒光增敏現(xiàn)象。這可能與廢水中含有帶堿性基團(tuán)和酸性基團(tuán)的熒光有機(jī)物有關(guān)。因?yàn)橛袡C(jī)弱酸或弱堿的分子及其相應(yīng)的離子就會在水中同時(shí)存在,而這兩種形式由于空間結(jié)構(gòu)的差異,發(fā)光性能上也可能差異顯著。當(dāng)pH變化時(shí),造成了水中這兩種型體的比例會發(fā)生變化,從而導(dǎo)致熒光光譜的形狀和強(qiáng)度的改變。綜上所述,該頭孢制藥廢水具有獨(dú)特的水質(zhì)指紋特征。該水質(zhì)指紋特征可作為水體中快速識別該制藥廢水存在的新方法。
【作者單位】： 清華大學(xué)環(huán)境學(xué)院環(huán)境模擬與污染控制國家重點(diǎn)聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室;
【關(guān)鍵詞】： 頭孢制藥廢水 水質(zhì)指紋 pH 熒光增敏 熒光猝滅
【基金】：國家水體污染控制與治理科技重大專項(xiàng)項(xiàng)目(2014ZX07305001) 清華大學(xué)自主科研項(xiàng)目(20131089252) 國家(863)課題項(xiàng)目(2011AA060901)資助
【分類號】：X832;O657.3
【正文快照】： 引言熒光光譜是有機(jī)污染檢測的新興方法。水樣的熒光光譜與水樣一一對應(yīng)[1],被稱為“水質(zhì)指紋”,簡稱水紋。不同行業(yè)廢水的水紋差異明顯,可以用來鑒別污水的種類,進(jìn)而識別排放源[2]。制藥廢水是典型的難降解廢水,環(huán)境危害大。根據(jù)2012年《中國環(huán)境年鑒》,我國制藥廢水年排放量

【相似文獻(xiàn)】

中國期刊全文數(shù)據(jù)庫 前3條

1 李再興;張非非;左劍惡;王勇軍;陳平;周崇暉;余忻;;SPE-RRLC-MS/MS法測定制藥廢水中青霉素G[J];環(huán)境工程;2013年03期

2 葉芝祥,江奇,成英,蔡鐸昌;蒙脫石-石墨-聚氯乙烯復(fù)合電極測定制藥廢水中苯酚[J];分析試驗(yàn)室;2002年01期

3 ;[J];;年期

，

本文編號：575715