氧化鈰顆粒大小和形貌控制合成及其拋光性能
發(fā)布時(shí)間:2022-01-24 16:27
本文采用不同方法合成了不同粒徑大小和形貌的氧化鈰,并評(píng)價(jià)了它們拋光K9玻璃的材料去除速率(MRR)和表面粗糙度,探究了氧化鈰的尺寸大小、Zeta電位、化學(xué)活性與拋光性能的關(guān)系。以大比重堿式碳酸鈰為前驅(qū)體,通過攪拌球磨和煅燒來制備氧化鈰拋光粉。用正交試驗(yàn)法研究了球磨時(shí)間、球料比、液固比等因素對(duì)球磨產(chǎn)物的粒徑及分布的影響,確定了影響產(chǎn)物粒徑大小的因素排序是球料比>球磨時(shí)間>液固比,最佳球磨條件為液固比1:1,球料比7.5:1和球磨時(shí)間5h。在不同溫度下對(duì)最優(yōu)條件下所得球磨產(chǎn)物煅燒制備了氧化鈰,評(píng)價(jià)了它們的拋光性能與其形貌、粒徑大小及分布、Zeta電位的關(guān)系。結(jié)果表明,隨著煅燒溫度從800℃上升到1100℃,所得氧化鈰對(duì)K9玻璃拋光的材料去除速率(MRR)先增加,而后降低。在900℃時(shí)最大,高達(dá)342.31 nm/min,拋光表面的均方根(RMS)粗糙度為0.286 nm。對(duì)應(yīng)的氧化鈰顆粒為類球形,SEM觀察的一次粒子平均粒徑為114 nm。采用上述方法,研究了硼酸添加量對(duì)球磨前后堿式碳酸鈰顆粒形貌大小和物相的影響,證明硼酸的添加量為3%時(shí)球磨產(chǎn)物粒徑小且分布窄。將球磨產(chǎn)物在不同...
【文章來源】:南昌大學(xué)江西省 211工程院校
【文章頁數(shù)】:73 頁
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【部分圖文】:
圖2.1大比重堿式碳酸鈰原料的XRD譜圖(a)、SEM圖(插圖)、粒度分布圖(b)??
?第2章濕固相機(jī)械法制備氧化鈰及其拋光性能???射峰對(duì)應(yīng)的(110)晶面,暴露了?15.8°、38.1°衍射峰對(duì)應(yīng)的(011)和(131)晶??面造成的。??8關(guān)丨|_??2Theta?(degree)??圖2.2最優(yōu)濕法球磨條件下所得球磨產(chǎn)物的SEM圖(a)、XRD譜圖(b)??用差熱-熱重分析研宄了在空氣氣氛下的熱分解過程。如圖2.3所示,可觀??察出50°C-245°C之間變化不大,所對(duì)應(yīng)的失重率僅為2.%%,這是表面吸附水蒸??發(fā)的過程。245°C-540°C范圍內(nèi)有一個(gè)較大的失重臺(tái)階,所對(duì)應(yīng)的的失重率為??19.78%,DSC曲線有兩個(gè)吸熱峰分別位于?270°C和?740°C。245°C-540°C的失重??量源于堿式碳酸鈰(CeCCbOH)熱分解為氧化鈰。540°C時(shí)完全失重,總共失重率??為?22.74%。??too?-??—_?—-1.2??\??DSC?1??“:?/?V-?:。、??1:/1?:1????-〇.〇??100?200?300?400?500?S00?700?SCO?900?1000??Tcmpcralurc?(*C)??圖2.3最優(yōu)濕法球磨條件下所得球磨產(chǎn)物的TG-DSC圖??24??
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【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]α-Al2O3納米粒子拋光漿料穩(wěn)定性及其對(duì)藍(lán)寶石拋光性能的影響[J]. 張曼,張啟凱,鄒蘭梅,所世興,于少明. 表面技術(shù). 2020(02)
[2]化學(xué)機(jī)械拋光過程中拋光液團(tuán)聚問題的研究[J]. 梁振,李薇薇,趙之琳. 電鍍與涂飾. 2020(03)
[3]添加劑對(duì)電誘導(dǎo)GaN晶片化學(xué)機(jī)械拋光的影響[J]. 寇青明,鈕市偉,王永光,朱玉廣,謝雨君,雷翔宇. 潤(rùn)滑與密封. 2020(02)
[4]球磨法制備鈰基稀土拋光粉及其拋光性能研究[J]. 胡浩,李梅,王覓堂,張曉偉,馮福山. 稀土. 2019(05)
[5]乙二胺四乙酸二鈉模板調(diào)控碳酸鈰粒子形貌的研究[J]. 徐良,胡艷宏,李梅,柳召剛,王覓堂,張曉偉,田甜. 稀土. 2019(05)
[6]拋光壓力和拋光墊硬度對(duì)PMMA-CeO2核殼復(fù)合磨粒拋光性能的影響(英文)[J]. 馬翔宇,陳楊. 微納電子技術(shù). 2019(10)
[7]摻雜氧化鈰-碳酸鹽復(fù)合電解質(zhì)材料研究進(jìn)展[J]. 王寧,韓文慶,張丹丹,許雅惠,李傳明. 山東化工. 2019(14)
[8]化學(xué)機(jī)械拋光液的研究進(jìn)展[J]. 孟凡寧,張振宇,郜培麗,孟祥東,劉健. 表面技術(shù). 2019(07)
[9]混合磨粒CMP拋光液的制備及拋光效果研究[J]. 賀祥,劉軍,高爽,耿偉緯,蔡金鳳,付慧壇. 河南化工. 2019(05)
[10]CeO2(111)和CeO2(100)的界面調(diào)控合成及在Pt(111)上的結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)變(英文)[J]. 張毅,馮衛(wèi),楊帆,包信和. 催化學(xué)報(bào). 2019(02)
碩士論文
[1]單晶藍(lán)寶石水合拋光機(jī)理與試驗(yàn)研究[D]. 吳建林.浙江工業(yè)大學(xué) 2010
[2]基于0.13μm及以下制程的直接淺溝道隔離平坦化技術(shù)的研究及應(yīng)用[D]. 邵群.上海交通大學(xué) 2008
[3]化學(xué)機(jī)械拋光的流動(dòng)性能和溫度場(chǎng)的計(jì)算[D]. 葉巍.北京交通大學(xué) 2008
本文編號(hào):3606910
【文章來源】:南昌大學(xué)江西省 211工程院校
【文章頁數(shù)】:73 頁
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【部分圖文】:
圖2.1大比重堿式碳酸鈰原料的XRD譜圖(a)、SEM圖(插圖)、粒度分布圖(b)??
?第2章濕固相機(jī)械法制備氧化鈰及其拋光性能???射峰對(duì)應(yīng)的(110)晶面,暴露了?15.8°、38.1°衍射峰對(duì)應(yīng)的(011)和(131)晶??面造成的。??8關(guān)丨|_??2Theta?(degree)??圖2.2最優(yōu)濕法球磨條件下所得球磨產(chǎn)物的SEM圖(a)、XRD譜圖(b)??用差熱-熱重分析研宄了在空氣氣氛下的熱分解過程。如圖2.3所示,可觀??察出50°C-245°C之間變化不大,所對(duì)應(yīng)的失重率僅為2.%%,這是表面吸附水蒸??發(fā)的過程。245°C-540°C范圍內(nèi)有一個(gè)較大的失重臺(tái)階,所對(duì)應(yīng)的的失重率為??19.78%,DSC曲線有兩個(gè)吸熱峰分別位于?270°C和?740°C。245°C-540°C的失重??量源于堿式碳酸鈰(CeCCbOH)熱分解為氧化鈰。540°C時(shí)完全失重,總共失重率??為?22.74%。??too?-??—_?—-1.2??\??DSC?1??“:?/?V-?:。、??1:/1?:1????-〇.〇??100?200?300?400?500?S00?700?SCO?900?1000??Tcmpcralurc?(*C)??圖2.3最優(yōu)濕法球磨條件下所得球磨產(chǎn)物的TG-DSC圖??24??
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【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]α-Al2O3納米粒子拋光漿料穩(wěn)定性及其對(duì)藍(lán)寶石拋光性能的影響[J]. 張曼,張啟凱,鄒蘭梅,所世興,于少明. 表面技術(shù). 2020(02)
[2]化學(xué)機(jī)械拋光過程中拋光液團(tuán)聚問題的研究[J]. 梁振,李薇薇,趙之琳. 電鍍與涂飾. 2020(03)
[3]添加劑對(duì)電誘導(dǎo)GaN晶片化學(xué)機(jī)械拋光的影響[J]. 寇青明,鈕市偉,王永光,朱玉廣,謝雨君,雷翔宇. 潤(rùn)滑與密封. 2020(02)
[4]球磨法制備鈰基稀土拋光粉及其拋光性能研究[J]. 胡浩,李梅,王覓堂,張曉偉,馮福山. 稀土. 2019(05)
[5]乙二胺四乙酸二鈉模板調(diào)控碳酸鈰粒子形貌的研究[J]. 徐良,胡艷宏,李梅,柳召剛,王覓堂,張曉偉,田甜. 稀土. 2019(05)
[6]拋光壓力和拋光墊硬度對(duì)PMMA-CeO2核殼復(fù)合磨粒拋光性能的影響(英文)[J]. 馬翔宇,陳楊. 微納電子技術(shù). 2019(10)
[7]摻雜氧化鈰-碳酸鹽復(fù)合電解質(zhì)材料研究進(jìn)展[J]. 王寧,韓文慶,張丹丹,許雅惠,李傳明. 山東化工. 2019(14)
[8]化學(xué)機(jī)械拋光液的研究進(jìn)展[J]. 孟凡寧,張振宇,郜培麗,孟祥東,劉健. 表面技術(shù). 2019(07)
[9]混合磨粒CMP拋光液的制備及拋光效果研究[J]. 賀祥,劉軍,高爽,耿偉緯,蔡金鳳,付慧壇. 河南化工. 2019(05)
[10]CeO2(111)和CeO2(100)的界面調(diào)控合成及在Pt(111)上的結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)變(英文)[J]. 張毅,馮衛(wèi),楊帆,包信和. 催化學(xué)報(bào). 2019(02)
碩士論文
[1]單晶藍(lán)寶石水合拋光機(jī)理與試驗(yàn)研究[D]. 吳建林.浙江工業(yè)大學(xué) 2010
[2]基于0.13μm及以下制程的直接淺溝道隔離平坦化技術(shù)的研究及應(yīng)用[D]. 邵群.上海交通大學(xué) 2008
[3]化學(xué)機(jī)械拋光的流動(dòng)性能和溫度場(chǎng)的計(jì)算[D]. 葉巍.北京交通大學(xué) 2008
本文編號(hào):3606910
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