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金屬次表層物種調(diào)控二維原子晶體外延生長(zhǎng)的原位表面研究

發(fā)布時(shí)間:2021-12-18 16:00
  二維原子晶體的外延生長(zhǎng)調(diào)控是二維材料研究和應(yīng)用中的一個(gè)重要課題,F(xiàn)有的調(diào)控方式包括改變前驅(qū)體、載氣、襯底表面結(jié)構(gòu)、生長(zhǎng)溫度等參數(shù)。我們提出利用襯底表面下的次表層物種進(jìn)行二維原子晶體外延生長(zhǎng)的調(diào)控。論文結(jié)合原位成像技術(shù)-光發(fā)射電子顯微鏡(Photoemmision Electron Microscopy,PEEM)/低能電子顯微鏡(Low Energy Electron Microscopy,LEEM)、原位譜學(xué)技術(shù)-X射線光電子能譜(X-ray Photoelectron Spectroscopy,XPS)和密度泛函理論(Density Functional Theory,DFT)計(jì)算,研究次表層物種對(duì)二維原子晶體外延生長(zhǎng)的調(diào)控及其微觀作用機(jī)理。主要得到以下研究結(jié)果:(1)次表層物種對(duì)二維原子晶體外延生長(zhǎng)動(dòng)力學(xué)和形貌的調(diào)控。原位研究了在不同溫度條件下六方氮化硼(h-BN)在Ru(0001)表面和含有次表層Ar的Ru(0001)表面上的形貌變化,觀察到隨溫度升高發(fā)生反常的“緊實(shí)-分形”(Compact-to-Fratal)形貌轉(zhuǎn)變過(guò)程。h-BN在兩種表面上的生長(zhǎng)均遵循“反應(yīng)控制聚集”(R... 

【文章來(lái)源】:中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué)安徽省 211工程院校 985工程院校

【文章頁(yè)數(shù)】:124 頁(yè)

【學(xué)位級(jí)別】:博士

【部分圖文】:

金屬次表層物種調(diào)控二維原子晶體外延生長(zhǎng)的原位表面研究


圖1.1石墨烯的制備方法

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?inks,?energy?storage,??^?^?^?bio,?transparent?conductive?layersl?^??Price?(for?mass?f?*odu#簦簦澹睿?崳?圖1.1石墨烯的制備方法。??Figure?1.1?The?mothods?of?graphene?preparation[54].??持石墨烯的完整性。機(jī)械剝離法是最先用于獲得薄層石墨烯的方法,由A.K.?Geim??和K.S.?Novoselov共同提出,即用膠布粘在高定向裂解石墨(H〇PG)上,然后直??接撕裂剝離得到石墨烯[1〇]。這是一種非常簡(jiǎn)單的方法,可以獲得厚度為單層至??十幾層的石墨烯,但可控性差,無(wú)法獲得大面積且均勻性良好的石墨烯層。液相??2??

過(guò)程圖,固相合成法,過(guò)程,方法


?卿I?l"l:a指I?Substrate??圖1.2基于Cu-Ni合金的CVD方法合成h-BN的過(guò)程。??Figure?1.2?The?process?of?h-BN?growth?on?Cu-Ni?alloy?by?CVD?method[2]??3??

【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]Ni(111)表面上偏析生長(zhǎng)外延石墨烯的原位表面成像研究(英文)[J]. 楊陽(yáng),傅強(qiáng),魏偉,包信和.  Science Bulletin. 2016(19)
[2]Oxygen intercalation under hexagonal boron nitride(h-BN)on Pt(111)[J]. Yanhong Zhang,Mingming Wei,Qiang Fu,Xinhe Bao.  Science Bulletin. 2015(18)
[3]解說(shuō)低能量/光電子顯微鏡(LEEM/PEEM)[J]. 郭方準(zhǔn).  物理. 2010(03)
[4]薄膜生長(zhǎng)中的表面動(dòng)力學(xué)(Ⅰ)[J]. 王恩哥.  物理學(xué)進(jìn)展. 2003(01)



本文編號(hào):3542725

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