CVD法生長石墨烯
發(fā)布時(shí)間:2017-04-13 11:51
本文關(guān)鍵詞:CVD法生長石墨烯,由筆耕文化傳播整理發(fā)布。
【摘要】:石墨烯自發(fā)現(xiàn)以來,就引發(fā)了多個(gè)領(lǐng)域的研究高潮。其獨(dú)特的物性逐漸被人們所認(rèn)識,并成為石墨烯廣闊應(yīng)用前景的物理基礎(chǔ)。石墨烯有望成為下一代電子產(chǎn)品中硅基半導(dǎo)體的替代材料,以及太陽能的開發(fā)與使用的候選技術(shù)。 硅納米線作為納米形式的硅晶,由于量子限制效應(yīng)而具有令人驚奇的光電效應(yīng)。由于多種缺點(diǎn),目前而尚未廣泛應(yīng)用于太陽能材料的制備。 我們利用鎳做催化劑,采用CVD法,在硅納米線上制備出納米尺寸的石墨烯,期待能對太陽能新能源的開發(fā)有所裨益。本文采用拉曼光譜、X光電子能譜以及掃描電子顯微鏡對石墨烯進(jìn)行了表征,并與大面積硅單晶上的制備效果進(jìn)行對比,結(jié)果顯示:隨著鎳膜厚度的不同,石墨烯的質(zhì)量變化趨勢并不同。在硅納米線上所長石墨烯,質(zhì)量隨鎳膜厚度的增加而提高;單晶硅上的石墨烯則隨鎳膜厚度增加,質(zhì)量下降。
【關(guān)鍵詞】:石墨烯 硅納米線 單晶硅 CVD
【學(xué)位授予單位】:浙江大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2013
【分類號】:O613.71
【目錄】:
- 摘要5-6
- Abstract6-9
- 1 緒論9-24
- 1.1 石墨烯的發(fā)現(xiàn)9-12
- 1.2 石墨烯的主要性質(zhì)12-16
- 1.2.1 機(jī)械性質(zhì)13
- 1.2.2 能帶特征13-14
- 1.2.3 量子霍爾效應(yīng)14-15
- 1.2.4 導(dǎo)電特性15
- 1.2.5 其他性質(zhì)15-16
- 1.3 石墨烯的應(yīng)用前景16-18
- 1.3.1 復(fù)合材料16
- 1.3.2 電子產(chǎn)業(yè)16-17
- 1.3.3 燃料電池17
- 1.3.4 功能化石墨烯17-18
- 1.3.5 其他的應(yīng)用領(lǐng)域18
- 1.4 石墨烯的制備方法18-20
- 1.4.1 機(jī)械剝離法18
- 1.4.2 氧化還原法18-19
- 1.4.3 加熱SiC法19
- 1.4.4 化學(xué)氣相沉積法(CVD)19
- 1.4.5 其他的制備方法19-20
- 1.5 硅納米線的簡單介20-21
- 1.5.1 硅納米線的制備及性質(zhì)20-21
- 1.5.2 硅納米線的應(yīng)用領(lǐng)域21
- 1.6 本課題的研究背景以及研究意義21-24
- 2 表征技術(shù)與實(shí)驗(yàn)手段24-31
- 2.1 實(shí)驗(yàn)原理24-25
- 2.1.1 石墨烯的生長原理24
- 2.1.2 硅納米線的生長原理24-25
- 2.2 表征方法25-29
- 2.2.1 拉曼光譜25-26
- 2.2.2 XPS26-28
- 2.2.3 SEM28-29
- 2.3 實(shí)驗(yàn)裝置29-31
- 3 CVD法多襯底制備石墨烯31-44
- 3.1 引言31
- 3.2 實(shí)驗(yàn)31-33
- 3.2.1 硅納米線的制備31-32
- 3.2.2 濺射鎳膜32
- 3.2.3 石墨烯樣品的制備32-33
- 3.3 實(shí)驗(yàn)結(jié)果與討論33-43
- 3.3.1 硅納米線形貌33-35
- 3.3.2 石墨烯的表征35-43
- 3.4 結(jié)論43-44
- 4 論文總結(jié)與展望44-45
- 參考文獻(xiàn)45-54
- 致謝54
【參考文獻(xiàn)】
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本文編號:303511
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