氧化鋁是工業(yè)上最常用的除氟吸附劑。近年來,人們主要通過對氧化鋁進(jìn)行改性,改變各種吸附條件來提高氧化鋁對氟離子的吸附容量,對氧化鋁的再生過程研究較少。以工業(yè)級的一水軟鋁石為前驅(qū)體,經(jīng)500、600和700 鍛燒制℃?zhèn)涞没钚匝趸X,繼而系統(tǒng)研究了活性氧化鋁對水中氟離子的吸附性能。采用XRD、SEM對吸附劑的結(jié)構(gòu)和形貌進(jìn)行了表征,利用BET研究了吸附劑的表面和孔結(jié)構(gòu),采用等電點(diǎn)表征了吸附劑表面的電荷。吸附穿透曲線表明吸附劑的鍛燒溫度和氟離子的初始濃度影響活性氧化鋁對氟離子的吸附效果。系統(tǒng)研究了經(jīng)500、600和700 ℃煆燒制備的活性氧化鋁的再生及再生后的吸附效果。研究結(jié)果表明,pH值為13.0氫氧化鈉溶液適合用來再生活性氧化鋁,在多次再生過程中,鋁的溶解率在逐漸減小;再生后的活性氧化鋁的比表面積、等電點(diǎn)均比再生前的比表面積、等電點(diǎn)大。吸附穿透曲線顯示,三種溫度鍛燒的活性氧化鋁,第一次再生后的吸附容量均大于再生前的吸附容量,且前兩次再生的再生率都大于90%,說明活性氧化鋁適合多次重復(fù)使用。三種溫度煅燒的活性氧化鋁五次再生的吸附容量均隨著再生次數(shù)的增加而逐漸減小,且500℃鍛燒的活性氧化鋁再生率最高,這與每次再生后吸附劑內(nèi)羥基的數(shù)量有關(guān)。
【學(xué)位單位】：北京化工大學(xué)
【學(xué)位級別】：碩士
【學(xué)位年份】：2018
【中圖分類】：O647.3
【部分圖文】：

北京化工大學(xué)碩士學(xué)位論文??磺酸鹽樹脂進(jìn)行了研究，研究發(fā)現(xiàn)磺酸鹽ａｋｕｎｉ?（１９７０）研究了水中氟化物濃度為４ｍ０樹脂的除氟效果，結(jié)果表明隨著堿度的增Ｐｕｓｈｐａｎｊａｌｉ?（２０１３）研究發(fā)現(xiàn)，水中存在）時樹脂的吸附量降低３３％ｆ２４Ｌ??有一定的除氟能力，但交換樹脂再生需樹脂除氟會產(chǎn)生高氟濃度的鹽水溶液［２８］，項很復(fù)雜的技術(shù)，而且成本非常高［２４］。??的電化學(xué)過程，其基本原理是，在原位溶極）并產(chǎn)生三價金屬離子，氫氧根離子和物作為吸附劑，產(chǎn)生的沉淀物通過沉降極，以工業(yè)處理水作為陰極的電凝過程［２

圖２－１氟離子標(biāo)準(zhǔn)曲線??Ｆｉｇｕｒｅ?２－１?ｓｔａｎｄａｒｄ?ｃｕｒｖｅ?ｏｆ?Ｆ＂??濃度的計算??采用動態(tài)吸附法：將２０ｇ吸附劑填充于長為４５ｃｍ、內(nèi)徑為１吸附柱的頂端和底端均填入一定量的玻璃毛；然后通過蠕溶液送至吸附柱的頂端；在固定時間間隔內(nèi)收集吸附柱底離子的濃度，氟離子的濃度按照下列式（２－１）進(jìn)行計算。??７１．１８－５８．７５Ｅ?附量的計算??附柱的吸附量通常是通過對穿透曲線進(jìn)行積分計算而得到時間為ｘ軸，以出口濃度（或出口濃度與初始濃度之比）

２．３實(shí)驗(yàn)結(jié)果與討論??２．３．１—水軟鋁石在不同溫度下煅燒的ＸＲＤ表征??圖２－２為顆粒一水軟鋁石樣品在３００－１２００?°Ｃ下煅燒的的ＸＲＤ譜圖。??ｖ?Ａ?＿?Ａ?９〇〇°Ｃ??＇?????／Ｖ?８００°Ｃ??—?、??／Ｖ?７００°Ｃ??＾?＇??？ｙ＼?－?Ａ?６〇ｏ°ｃ??一?、??Ｊ＼?５００°Ｃ??０?１０?２０?３０?４０?５０?６０?７０?８０??２０?（ｄｅｇｒｅｅ?）??Ｂ??■?＊?｜?１２００°Ｃ??＾????ＬＬＬＪＵＬＪＬｊ＾??０５??Ｉ?—ＪＬｌＬｉＬｉｊｒ??＿ｃ??＿???ＬＪＵＬ＿ｊＪＬ＾°°ｃ??０?１０?２０?３０?４０?５０?６０?７０?８０??２０?（?ｄｅｇｒｅｅ?）??圖２－２不同溫度下煅燒的一水軟鋁石的ＸＲＤ譜圖??Ｆｉｇｕｒｅ?２－２?ＸＲＤ?ｐａｔｔｅｒｎｓ?ｏｆ?ｂｏｅｈｍｉｔｅ?ｃａｌｃｉｎｅｄ?ａｔ?ｄｉｆｆｅｒｅｎｔ?ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅｓ??從圖Ａ中可以看出，鍛燒溫度為３００和４００?°Ｃ時，顯示的是一水軟鋁石的??特征峰，其特征峰為?２０＝１４．５６。、２８．２２。、３８．５４。、４９．２０。、６５．０６。、７２．４４。，說明??樣品在４００?°Ｃ時可以穩(wěn)定存在。當(dāng)煅燒溫度在５００－９００?°Ｃ之間時，呈現(xiàn)的是Ｙ－??ＡＩ２Ｏ３特征峰，此時樣品轉(zhuǎn)換為ｙ－Ａｂ〇３，其特征峰為２０＝６６．８３。、４６．０２。、３７．１６。、??３９．６０°。從圖Ｂ中可以看出，當(dāng)溫度升到１０００°Ｃ時，呈現(xiàn)的是Ｓ－ＡＩ２Ｏ３和（Ｘ－ＡＩ２Ｏ３??１７??
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